Wavelight Visx Arf Xi lanh khí Argon Neon F2 Premix Excimer Laser Gas Alcon Lazer Gaz

Khí Excimer cho các mô hình một phần
Nhãn hiệu	Bước sóng	Hình trụ	Van
mạch lạc	193nm	20 L	DIN 8
B & L	193nm	20 L/50 L	DIN 8/ DIN 14
ZEISS	193nm	10L/20L	DIN 8
VISX	193nm	16 L	CGA 679
NIDEK	193nm	16 L	CGA 679
TIA NHĂM LAZE	193nm	10 L	CGA 679

Câu Hỏi

Giới thiệu chung
Câu Hỏi
Sản phẩm tương tự

Mô tả sản phẩm

Wavelight Visx Arf Bình khí Argon Neon F2 Premix Excimer Laser Gas Alcon Lazer Nhà cung cấp Gaz

Argon (AR), Fluorine(F2), Helium (He) Neon(Ne)Các khí trộn sẵn được sử dụng để kích thích tia laser trên thiết bị laser kích thích nhãn khoa chủ yếu là flo và argon, với neon là khí cân bằng.

Sử dụng khí nguyên liệu có độ tinh khiết cao nhất. Chuẩn bị chính xác với hệ thống trộn khí tự động, giảm thiểu ảnh hưởng của yếu tố con người một cách hiệu quả. Xi lanh thép đóng gói áp dụng công nghệ thụ động độc đáo, có thể đảm bảo hiệu quả tỷ lệ dấu vết F2 và đảm bảo độ ổn định đáng tin cậy.

Các loại khí được trộn trước chủ yếu được sử dụng để kích thích tia laser trong các thiết bị laser kích thích nhãn khoa là khí flo và florua argon (ArF) khí ga.
AGEM đã duy trì liên hệ chặt chẽ với các nhà sản xuất thiết bị khoang laser kể từ khi phát triển ban đầu các thiết bị laser excimer và đã hỗ trợ nghiên cứu và phát triển khí.
Hiện nay chúng tôi có thể cung cấp Khí trộn sẵn ArF gần như tất cả các thương hiệu Các thiết bị laser Excimer hiện có trên thị trường

Khí Excimer cho các mô hình một phần
Nhãn hiệu	Bước sóng	Hình trụ	Van
mạch lạc	193nm	20 L	DIN 8
B & L	193nm	20 L/50 L	DIN 8/ DIN 14
ZEISS	193nm	10L/20L	DIN 8
VISX	193nm	16 L	CGA 679
NIDEK	193nm	16 L	CGA 679
TIA NHĂM LAZE	193nm	10 L	CGA 679
Alcon	193nm	16 L	CGA 679
SCHWIND	193nm	20 L	DIN 8/ DIN 14
SUMMIT	193nm	16 L	CGA 679