Hỗn hợp khí Argon ArF F2 cho bình khí Laser Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer

Câu Hỏi

Giới thiệu chung
Câu Hỏi
Sản phẩm tương tự

Xin giới thiệu, AGEM's ArF F2 Argon Mixture Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser Gas Cylinder. Sản phẩm này được thiết kế để cung cấp hiệu suất tuyệt vời cho hệ thống laser của bạn. Với sự pha trộn mạnh mẽ của ArF F2 và Argon Mixture, xi lanh này mang lại độ tin cậy và ổn định đáng kể.

Bình khí laser hỗn hợp Argon ArF F2 của AGEM dành cho Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser tương thích với nhiều hệ thống laser, bao gồm cả Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser. Sản phẩm này được thiết kế để mang lại hiệu suất vượt trội trong thời gian dài, giảm khả năng hệ thống bị lỗi hoặc ngừng hoạt động do khí không ổn định.

Xi lanh sử dụng vật liệu chất lượng cao đảm bảo khí tinh khiết và không có tạp chất. Những vật liệu này đã được lựa chọn cẩn thận để đảm bảo khí không bị nhiễm bất kỳ chất gây ô nhiễm nào có thể làm thay đổi đặc tính của chùm tia laser.

Bình khí laser hỗn hợp Argon ArF F2 của AGEM dành cho Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser cũng an toàn khi sử dụng. Bình khí được thiết kế chú trọng đến vấn đề an toàn, tích hợp các tính năng ngăn khí rò rỉ hoặc phản ứng với các chất khác. Ngoài ra, sản phẩm tuân thủ tất cả các tiêu chuẩn an toàn cần thiết, đảm bảo hệ thống của bạn an toàn và hoạt động mà không gây nguy hiểm cho nhân viên.

Sản phẩm này cũng có sẵn với mức giá phải chăng. Bình khí laser hỗn hợp ArF F2 Argon của AGEM dành cho Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser Gas là sản phẩm có giá cả cạnh tranh, mang lại giá trị tuyệt vời cho số tiền bạn bỏ ra. Sản phẩm này kết hợp lý tưởng giữa hiệu suất chất lượng và giá cả phải chăng, cho phép bạn đạt được kết quả vượt trội mà không phải chịu chi phí đáng kể

Hỗn hợp khí laser ArF F2 Argon cho Alcon Allegretto Wavelight 400Hz

Hỗn hợp khí laser excimer là sự kết hợp của các khí hiếm (argon, krypton, xenon hoặc neon) và các khí halogen (flo hoặc clo). Hỗn hợp khí quyết định bước sóng của ánh sáng DUV được tạo ra. Argon+flo+neon (193nm) và Krypton+flo+neon (248nm) là hai hỗn hợp phổ biến nhất được sử dụng. Về mặt thể tích; neon chiếm khoảng 96–97.5% hỗn hợp

Phân loại	Thành phần %	Cân bằng khí
Khí hỗn hợp Laser He-Ne	2~8.3 Ne	He
Khí hỗn hợp Laser CO2	0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr	/
			0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO
			0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO
			0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO
			0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO
			0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr
Khí hỗn hợp Laser Kr-F2	5 Kr+ 10 F2	/
Khí hỗn hợp Laser Kr-F2		/	5 Kr+ 1~0.2 F2
Khí Laser kín	18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO	/
Laser Excimer	25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2	Ar
		25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2	He
		25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2	He
		25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl	A

Khí Excimer cho các mô hình một phần
Nhãn hiệu	Bước sóng	Hình trụ	Van
mạch lạc	193nm	20 L	DIN 8
B & L	193nm	20 L/50 L	DIN 8/ DIN 14
ZEISS	193nm	10L/20L	DIN 8
VISX	193nm	16 L	CGA 679
NIDEK	193nm	16 L	CGA 679
TIA NHĂM LAZE	193nm	10 L	CGA 679
Alcon	193nm	16 L	CGA 679
SCHWIND	193nm	20 L	DIN 8/ DIN 14
SUMMIT	193nm	16 L	CGA 679