Khí laser ArF F2 Argon Phối hợp cho máy Laser Excimer Alcon Allegretto Wavelight 400Hz bình khí
- Tổng quan
- Truy vấn
- Sản phẩm liên quan
Giới thiệu, bình khí laser hỗn hợp ArF F2 Argon của AGEM dành cho hệ thống laser Excimer Alcon Allegretto Wavelight 400Hz. Sản phẩm này được thiết kế để cung cấp hiệu suất tuyệt vời cho hệ thống laser của bạn. Với hỗn hợp mạnh mẽ của ArF F2 và Argon, bình khí này mang lại độ tin cậy và ổn định đáng kể.
Bình khí laser hỗn hợp ArF F2 Argon của AGEM dành cho hệ thống laser Excimer Alcon Allegretto Wavelight 400Hz tương thích với nhiều loại hệ thống laser, bao gồm cả laser Excimer Alcon Allegretto Wavelight 400Hz. Sản phẩm này đã được nghiên cứu và phát triển để cung cấp hiệu suất vượt trội trong thời gian dài, giảm khả năng xảy ra sự cố hoặc ngừng hoạt động do sự bất ổn của khí.
Bình khí sử dụng các vật liệu chất lượng cao đảm bảo rằng khí là tinh khiết và không có tạp chất. Các vật liệu này đã được lựa chọn kỹ lưỡng để đảm bảo rằng khí không bị ô nhiễm bởi bất kỳ chất gây ô nhiễm nào, có thể làm thay đổi đặc tính của tia laser.
Khí laser hỗn hợp ArF F2 Argon của AGEM dành cho khí laser Excimer Alcon Allegretto Wavelight 400Hz cũng an toàn để sử dụng. Bình chứa đã được thiết kế với sự an toàn làm trọng tâm, tích hợp các tính năng ngăn ngừa khí thoát ra hoặc phản ứng với các chất khác. Ngoài ra, sản phẩm tuân thủ tất cả các tiêu chuẩn an toàn cần thiết, đảm bảo hệ thống của bạn được bảo vệ và hoạt động mà không gây rủi ro cho nhân viên.
Sản phẩm này cũng sẵn có với giá cả phải chăng. Khí laser hỗn hợp ArF F2 Argon của AGEM dành cho bình khí laser Excimer Alcon Allegretto Wavelight 400Hz là một sản phẩm có giá cạnh tranh, mang lại giá trị tốt cho đồng tiền của bạn. Nó cung cấp sự kết hợp lý tưởng giữa hiệu suất chất lượng và mức giá phải chăng, giúp bạn đạt được kết quả vượt trội mà không phải chịu chi phí đáng kể.

Hỗn hợp khí laser excimer là sự kết hợp giữa các khí hiếm (argon, krypton, xenon hoặc neon) và các khí halogen (fluorine hoặc chlorine). Sự pha trộn của các khí quyết định bước sóng của ánh sáng DUV được tạo ra. Hỗn hợp argon+fluorine+neon (193nm) và krypton+fluorine+neon (248nm) là hai hỗn hợp phổ biến nhất được sử dụng. Về thể tích; neon chiếm khoảng 96–97.5% của hỗn hợp
Danh mục |
Thành phần % |
Khí cân bằng |
||
Khí hỗn hợp Laser He-Ne |
2~8.3 Ne |
He |
||
Khí hỗn hợp Laser CO2 |
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr |
/ |
||
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO |
||||
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO |
||||
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO |
||||
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO |
||||
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr |
||||
Khí hỗn hợp Laser Kr-F2 |
5 Kr+ 10 F2 |
/ |
||
5 Kr+ 1~0.2 F2 |
||||
Khí Laser Tia Năng Khiếu Đóng Kín |
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO |
/ |
||
Excimer laser |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2 |
AR |
||
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2 |
He |
|||
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2 |
He |
|||
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl |
A |
Khí excimer cho các mô hình phần |
||||||
Thương hiệu |
Bước sóng |
Xi lanh |
Van |
|||
Coherent |
193nm |
20 L |
DIN 8 |
|||
B & L |
193nm |
20 L/50 L |
DIN 8/ DIN 14 |
|||
Zeiss |
193nm |
10L/20 L |
DIN 8 |
|||
VISX |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
NIDEK |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
LASERSIGHT |
193nm |
10 lít |
CGA 679 |
|||
Alcon |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
SCHWIND |
193nm |
20 L |
DIN 8/ DIN 14 |
|||
SUMMIT |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
Các ứng dụng khác của laser ArF bao gồm việc sản xuất mạch tích hợp bán dẫn. Nó cũng hỗ trợ phân tích tại chỗ các mẫu khoáng vật dựa trên quá trình bay hơi.







