Alcon VISX Zeiss Arf Gas Premix Gas Laser Steel DOT Xi lanh áp suất cao Hàn áp suất cao Giá khí Laser Excimer Việt Nam

Câu Hỏi

Giới thiệu chung
Câu Hỏi
Sản phẩm tương tự

Alcon Allegretto Wavelight Lasik Phẫu thuật mắt F2 Argon Helium Neon Hỗn hợp Gaz Arf Premix Gas Laser Arf Gaz

Argon (AR),Fluorine(F2),Helium (He) Neon(Ne)Các khí trộn sẵn được sử dụng để kích thích tia laser trên thiết bị laser kích thích nhãn khoa chủ yếu là flo và argon, với neon là khí cân bằng. Các xi lanh do công ty chúng tôi cung cấp là xi lanh bằng thép, độ an toàn được kiểm tra trước mỗi quá trình đổ đầy và các xi lanh không đạt tiêu chuẩn không được nạp lại và chúng được tái chế. Khí Laser Excimer bao gồm hỗn hợp khí hiếm (khí trơ) và halogen. Tia laser có bước sóng 193 nm được tạo ra dưới phản ứng của khí Ar và F2 trong điều kiện thích hợp là kích thích điện và áp suất cao. Quá trình này đòi hỏi công nghệ cao và rất ít công ty khí trên thế giới có thể thực hiện được.

#Excimerlasergas #Visxlasergas #Premixgas

Khí Excimer cho các mô hình một phần
Nhãn hiệu	Bước sóng	Hình trụ	Van
mạch lạc	193nm	20 L	DIN 8
B & L	193nm	20 L/50 L	DIN 8/ DIN 14
ZEISS	193nm	10L/20L	DIN 14
VISX	193nm	16 L	CGA 679
NIDEK	193nm	16 L	CGA 679
TIA NHĂM LAZE	193nm	10 L	CGA 679
Alcon	193nm	20L	DIN8
SCHWIND	193nm	10 L	DIN 8/ DIN 14
SUMMIT	193nm	16 L	CGA 679