EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
KHÔNG
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
- Giới thiệu chung
- Câu Hỏi
- Sản phẩm tương tự
Thông tin sản phẩm:
Carbon tetrafluoride là một chất làm lạnh đông lạnh tương đối trơ trong điều kiện bình thường, là chất thay thế oxy và cũng được sử dụng trong các quy trình ăn mòn wafer khác nhau.
CF4 hiện là khí khắc plasma được sử dụng rộng rãi nhất trong ngành vi điện tử. Nó có thể được sử dụng rộng rãi trong việc khắc các vật liệu màng mỏng như silicon, silicon dioxide, silicon nitride, thủy tinh photphosilicate và vonfram, cũng như làm sạch bề mặt của các thiết bị điện tử và pin mặt trời. Nó cũng được sử dụng rộng rãi trong sản xuất công nghệ laser, cách nhiệt pha khí, làm lạnh ở nhiệt độ thấp, chất phát hiện rò rỉ, kiểm soát thái độ của tên lửa không gian và chất khử nhiễm trong sản xuất mạch in.
Do tính ổn định hóa học của carbon tetraflorua, carbon tetraflorua có thể được sử dụng trong ngành công nghiệp luyện kim và nhựa
