lahat ng kategorya

Mula sa alibaba

Home  >  Mula sa alibaba

ArF F2 Argon Mixture Laser Gas Para sa Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser Gas cylinder

  • Pangkalahatang-ideya
  • Pagtatanong
  • Kaugnay na Mga Produkto
ArF F2 Argon Mixture Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz

Ang excimer laser gas mixtures ay isang kumbinasyon ng mga bihirang gas (argon, krypton, xenon, o neon) at mga halogen gas (fluorine o chlorine). Tinutukoy ng pinaghalong mga gas ang wavelength ng DUV light na ginawa. Argon+fluorine+neon (193nm) at Krypton+fluorine+neon (248nm) ang dalawang pinakakaraniwang mixture na ginagamit. Sa mga tuntunin ng lakas ng tunog; binubuo ng neon ang humigit-kumulang 96–97.5% ng pinaghalong.

kategorya
Bahagi (%)
Balanse ng Gas
He-Ne Laser Mixture Gas
2~8.3 Ne
He
CO2 Laser Mixture Gas
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr
/
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr
Kr-F2 Laser Mixture Gas
5 Kr+ 10 F2
/
5 Kr+ 1~0.2 F2
Sealed Beam Laser Gas
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO
/
Excimer Laser
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2
Ar
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2
He
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2
He
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl
A
   Excimer gas para sa mga bahagyang modelo
Tatak
Weyblengt
Silindro
Balbula
COHERENT
193nm
20 L
Din 8
B & L
193nm
20 L / 50 L
DIN 8/ DIN 14
ZEISS
193nm
10L/20 L
Din 8
VISX
193nm
16 L
CGA 679
NIDEK
193nm
16 L
CGA 679
LAERSIGHT
193nm
10 L
CGA 679
Alcon
193nm
16 L
CGA 679
SCHWIND
193nm
20 L
DIN 8/ DIN 14
SUMMIT
193nm
16 L
CGA 679

Ang iba pang mga aplikasyon ng ArF laser ay kinabibilangan ng produksyon ng mga semiconductor integrated circuit. Pinapadali din nito ang in situ analysis ng mga sample ng mineral batay sa proseso ng ablation.

Bakit Pumili sa Amin
Mga Paglalarawan ng Produkto
Mga Detalye ng Mga Larawan
Profile ng Kompanya
Kalamangan
application
Packaging at Shopping
FAQ
Logistics

MAKIPAG-UGNAYAN