Air Gas Electronic Materials Enterprise Co., Ltd.

Pahina 1:Ano ang Plasma Etching? 

Hey guys, so nakarinig na ba kayo ng isang bagay na tinatawag na plasma etching? Ang plasma etching ay isang proseso na ginamit namin upang makagawa ng mga electronics, tulad ng mga computer chip na matatagpuan sa loob ng mga tablet at cellular device. Gamit ang isang paraan na tinatawag na lithography, ang maliliit na disenyo o pattern ay inukit sa mga materyales — isang mahalagang hakbang sa pagbuo ng mga device na ito. Ang pag-ukit na ito ay nangangailangan ng isang partikular na gas na maaaring makipag-ugnayan sa kemikal sa materyal na ginagamit namin. Ang gas na pinakamahalagang ginagamit namin kapag ginagawa ang prosesong ito ay tinatawag na C3F8. 

Ang C3F8 ay isang kapana-panabik na gas dahil napakabilis nitong tumutugon sa mga sangkap na gusto nating ukit. Nangangahulugan ito na mas pinabilis nito ang pag-ukit kaysa sa paggamit ng iba pang mga gas. Kung magpapatakbo kami gamit ang C3F8, nakakatanggap kami ng napakalinis at tumpak na pag-ukit ng mga disenyo. Ang katumpakan na ito ay talagang kapaki-pakinabang sa paggawa ng mga chip ng isang computer, at iba pang mga elektronikong aparato na kailangang magsagawa ng mga gawain nang tumpak. 

C3F8: Pagpapabuti ng Pagganap ng Pag-ukit 

Sa kontekstong ito, gumaganap ang C3F8 bilang pantulong na gas upang mapahusay ang kahusayan ng pag-ukit. Ang C3F8 ay may papel sa pagpigil sa gas plasma na madikit sa mga dingding ng etching chamber. Ang bagay ay, ang pagdikit ng plasma sa mga dingding ay maaaring tumaas ng kaunti ang oras ng pag-ukit. Kapag inilapat ang C3F8, idinidirekta nito ang plasma sa kung ano ang kailangang ukit. Ito ay lubos na magpapabilis at magpapakinis sa buong proseso. 

Ang C3F8 ay mayroon ding karagdagang benepisyo ng mahusay na katatagan. Isinasalin ito sa tibay, at hahawakan nito ang mga katangian ng insulating nito sa loob ng maraming taon. Kaya, ang Paggamit ng C3F8 ay hindi lamang magpapabilis sa pag-ukit ngunit magbibigay-daan din sa pagpapanatili ng homogenous na kalidad. 

[[STIR] Surface Functionalization Page 3: CH4 Application ng C3F8 Paggawa ng Maliit na Computer Chips 

Naisip mo na ba kung paano nila ginagawa ang maliliit na computer chips na iyon? Iyon ay nangangahulugang pagguhit ng mga mala-kristal na pattern—napakaliliit—sa isang silicon chip. Ang silikon na ito ay isang pangunahing elektronikong materyal. Napakahalaga ng C3F8 para sa prosesong ito dahil makakamit nito ang napakatalim at malinis na pag-ukit. Mahalaga iyon, dahil ang computer chip ay dapat na may mga pattern nito nang tama para gumana ito nang maayos. 

Dahil sa C3F8, maaaring likhain ng mga tagagawa ang maliliit na pattern na ito sa tumpak at maaaring kopyahin na paraan. Na nangangahulugan na ang bawat chip ay maaaring gumana nang normal. Ang C3F8 ay isa ring napakaraming gamit na etchant, dahil maaari itong mag-ukit ng maraming iba't ibang materyales. Nagbibigay-daan ito sa mga producer na makagawa ng magkakaibang mga elektronikong bagay kasama ng mga smart phone pati na rin ang mga tablet. 

C3F8 – Ang Mainam na Gas para sa Paghihiwalay 

Pagdating sa gas block, ang C3F8 ay hindi lamang epektibo ngunit isa ring magandang alternatibo. Dahil ito ay lubos na matatag sa kalikasan at maaaring gamitin nang paulit-ulit, ito rin ay isang napaka murang solusyon. Nangangahulugan ito na ang mga tagagawa ay kailangang bumili ng mas kaunting C3F8 sa halip na bumili ng mas mahal na gas. Nagbibigay-daan ito sa mga kumpanya na bawasan ang mga gastos sa pagpapanatili habang nakakamit ang pinakamainam na resulta gamit ang naka-save na C3F8. 

Bilang karagdagan, ang C3F8 ay napaka-friendly sa kapaligiran. Ito ay hindi isang magandang balita sa lahat para sa global warming na kung saan ay ang pinaka-nakababahalang isyu sa ngayon mundo. Ang C3F8 ay may natatanging kalamangan sa karamihan ng iba pang mga gas dahil hindi ito naglalabas ng mga nakakalason na kemikal sa hangin. Ginagawa nitong perpektong pagpili para sa mga responsableng tagagawa na gustong maging berde habang gumagawa ng kanilang mga produkto. 

Mas Mabuti at Mas Mabilis ang Pag-ukit ng C3F8 

Sa katunayan, ang C3F8 ay ang perpektong etching gas dahil nagbibigay ito ng napakabilis at tumpak na proseso para sa maraming materyales. Isinasalin ito sa isang mas mabilis na oras para sa mga tagagawa na bumuo ng maramihang mga elektronikong device. Sa C3F8, makakatipid din sila ng pera habang napapanatiling din.