Plini visoke čistosti za elektroniko Monofluorometan 99.999 % FC41 UN 2454 Halokarbon 41 Metil fluorid CH3F Slovenija

Povpraševanje

Pregled
Povpraševanje
Podobni izdelki

Plini visoke čistosti za elektroniko Monofluorometan 99.999 % FC41 UN 2454 Halokarbon 41 Metil fluorid CH3F

AGEM proizvajajo in prodajajo plin monofluorometan visoke čistosti (CH3F), ki se uporablja v procesu izdelave polprevodniških čipov.

fluorometan, znan tudi kot metil fluorid, Freon 41, Halocarbon-41 in HFC-41, je nestrupen, utekočinjen plin pri standardni temperaturi in tlaku. Sestavljen je iz ogljika, vodika in fluora. Ime izhaja iz dejstva, da gre za metan (CH4) z atomom fluora, ki je zamenjal enega od atomov vodika. Uporablja se v postopkih izdelave polprevodnikov kot plin za jedkanje v reaktorjih za plazemsko jedkanje.

fluorometan, pogosteje imenovan metil fluorid (MeF) ali halokarbon 41 je nestrupen utekočinjen plin, ki se uporablja v proizvodnji polprevodnikov in elektronskih izdelkov. V prisotnosti RF polja disociira na fluorove ione za selektivno jedkanje filmov silicijeve spojine.

uporaba:CH3F je poseben plin, ki se uporablja v procesu izdelave polprevodniških čipov za mikroobdelovanje nitridnega filma z jedkanjem. CH3F se v glavnem uporablja pri izdelavi polprevodniških pomnilniških čipov, vključno z NAND flash in DRAM, ki zahteva mikroobdelovalno tehnologijo. Ker je njegova selektivnost jedkanja višja kot pri drugih plinih, je CH3F primeren za mikroobdelovanje večplastne strukture bliskavice 3D NAND. Povpraševanje po CH3F se v teh dneh povečuje zaradi zagona številnih linij za proizvodnjo 3D NAND flash.