EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
Vysoká čistota 99.999 % elektronickej kvality pre polovodičové použitie Plyn C4F6 Oktafluórcyklobutánový plyn
- Prehľad
- dotaz
- Súvisiace produkty
Suché leptanie Materiály na báze oxidov Stlačené skvapalnené plyny Perfluór 2 butín H 2316 Perfluór 2 butín C4F6
Hexafluór-1,3-butadién je toxický, bezfarebný, horľavý skvapalnený stlačený plyn bez zápachu.
Roky výskumu ukázali, že C4F6 (H-2316) predstavuje niekoľko výhod pre suché leptanie materiálov na báze oxidov:
Má vyššiu rýchlosť leptania a selektivitu ako oktafluórcyklobután (c-C4F8 – H318), ďalšie široko používané leptadlo pre oxid kremičitý. Na rozdiel od C4F8 (H318) s C4F6 (H2316) je leptaný iba dielektrický substrát. Leptaná štruktúra má vyšší pomer strán, čo vedie k užším priekopám v porovnaní s c-C4F8. Emisie VOC sú znížené: C4F6 (H2316) má nízky potenciál globálneho otepľovania, pretože má oveľa kratšiu životnosť v atmosfére.
použitie:
Ďalšia generácia základných materiálov požadovaných vo výrobných procesoch LSI na minimalizáciu šírky a hĺbky obvodového vedenia. Suchý leptací plyn sa používa v procese leptania mikrokontaktných otvorov. Pre špeciálne plyny založené na chemickom vzorci CxFy platí, že čím menšia je hodnota F/C, tým viac skupín CF2 sa vytvorí. V porovnaní s C2F6 C3F8 má C4F6 menší pomer F/C a produkuje viac skupín CF2, čo zase leptá viac oxidového filmu. Preto má C4F6 vyššiu selektivitu voči oxidovému filmu a umožňuje rovnomernejšie leptanie.
