EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
- Төгсөгч
- Хүсэлт
- Холбоотой бүтээгдэхүүнүүд
Семик хийх үйл ажиллагаанд Plasma Deposition Gas And Etchant 99.9% C318 Perfluorocyclobutane Хөрш бодисын газ C4F8
Семик материалуудын үйлдвэрлэгчид болон тогтвортой бараануудад octafluorocyclobutane нь зөрчлийн газ болон etchant гэсэн үүрэгтэй. Тухайн үйл ажиллагаанд хэрэглэгчдийн хувьд ozone дамжуулагч chlorofluorocarbon хөрш бодисын газын оронд шалгаруулж байна. Түүний волатиль ба хими хийслэг байдлыг ашигласандаа octafluorocyclobutane нь зарим aerosolized эд хөрөгт орсон байгаа. Энэ нь Codex Alimentarius-д дугаар 946 (EU-д E946) тэмдэглэгээгээр бичигдсэн байна. Энэ нь sulfurhexafluoride-ийн оронд dielectric газ болох боломжийг шалгарч байна.
C4F8, HALOCARBON C318 99.8% G 10LBS, C4F8, Семик хийх газ, Хэрэглэг: Электроникийн, Семик хийх, Dopant,Etchant, Reactant, Fabrication, Reactors, Silicon-Precursor, Газ, Purge, Pure, Standards, Хөрш бодис - HA C3183.
