Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon
แก๊สเอ็กไซเมอร์สำหรับรุ่นย่อยบางรุ่น | |||
ຍີ່ຫໍ້ | ຄວາມຍາວຂອງຄື້ນ | ຫມໍ້ໄຟ | ลูกล็อค |
COHERENT | 248nm | 10 L | DIN 8/JIS |
B & L | 193nm | 20 L/50 L | DIN 8/DIN 14 |
Zeiss | 193nm | 10L/20 L | DIN 8 |
VISX | 193nm | 16 L | CGA 679 |
NIDEK | 193nm | 16 L | CGA 679 |
- ຄວາມເປັນມາ
- ການຖາມຫໍ
- ສິນຄ້າທี่เกີດ;

เลเซอร์อาร์กอนฟลูออไรด์ (KrF) เป็นประเภทหนึ่งของเลเซอร์เอ็กไซเมอร์ เลเซอร์เอ็กไซเมอร์ (ย่อมาจาก "excited dimer") ประกอบด้วยสารผสมของแก๊สน้ำยา เช่น เซนนอน, คริปตอน หรือ อาร์กอน และแก๊สฮาโลเจน เช่น คลอรีน หรือ ฟลูออรีน เมื่อถูกกระตุ้นด้วยแรงดันสูงและไฟฟ้า จะปล่อยแสงยูวี (UV) แบบกระตุ้นในช่วงความยาวคลื่น 248 นาโนเมตร
ປະເພດ
|
ສ່ວນປະກອບ (%)
|
Balance Gas
|
||
He-Ne Laser Mixture Gas
|
2~8.3 Ne
|
He
|
||
CO2 Laser Mixture Gas
|
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr
|
/
|
||
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO
|
||||
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO
|
||||
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO
|
||||
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO
|
||||
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr
|
||||
แก๊สผสมเลเซอร์ Kr-F2
|
5 Kr+ 10 F2
|
/
|
||
5 Kr+ 1~0.2 F2
|
||||
แก๊สเลเซอร์แบบปิดสนิท
|
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO
|
/
|
||
Excimer laser
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2
|
Ar
|
||
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2
|
He
|
|||
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2
|
He
|
|||
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl
|
ກ
|
แก๊สเอ็กไซเมอร์สำหรับรุ่นย่อยบางรุ่น
|
|||
ຍີ່ຫໍ້
|
ຄວາມຍາວຂອງຄື້ນ
|
ຫມໍ້ໄຟ
|
ลูกล็อค
|
COHERENT
|
248nm
|
10 L
|
DIN 8/JIS
|
B & L
|
193nm
|
20 L/50 L
|
DIN 8/DIN 14
|
Zeiss
|
193nm
|
10L/20 L
|
DIN 8
|
VISX
|
193nm
|
16 L
|
CGA 679
|
NIDEK
|
193nm
|
16 L
|
CGA 679
|
LASERSIGHT
|
193nm
|
10 L
|
CGA 679
|
Alcon
|
193nm
|
16 L
|
CGA 679
|
SCHWIND
|
193nm
|
20 ໄຫ
|
DIN 8/DIN 14
|
SUMMIT
|
193nm
|
16 L
|
CGA 679
|
ສາຍການອ້ອມແລະວັດຖຸທີ່ມີຊີວະພາບຈຳເປັນຮັບຄວາມສົງສິດ UV ທີ່ອອກຈາກเลเซີ ArF. เลเซີນີ້ແຂກສາຍພັນໂມເລກຳຂອງເນື້ອໄປ, ເຊິ່ງຫຼັງມາຈະຕິດຕາມໃນອາກາດຜ່ານການແຂກໃນລີນທີ່ຄວບຄຸມ, ກັບການເສີມ. ຕໍ່ໄປ, เลเซີ ArF ໄດ້ມີຄວາມສາມາດທີ່ຈະລົບລົ້ມເສີມຂອງວັດຖຸທີ່ຢູ່ເທິງໂຕໂນ້າມາຍໂດຍບໍ່ມີການຮ້ອນ. ອັນນີ້ເປັນຄຸນຫຼາຍທີ່ເຮັດໃຫ້莱 F excimer lasers ໄດ້ຖືກໃຊ້ຫຼາຍໃນເຄື່ອງຝ່າຍພຸດທະລິທີ້ທີ່ມີຄວາມແນວໆສູງ, ອັນເປັນເทັກນົອລົກທີ່ສຳຄັນສຳລັບການຜະລິດ microelectronic chips ສຳລັບການເຂົ້າໃນ opthalmological application. ອື່ນໆການໃຊ້莱 F laser ໄດ້ມີການຜະລິດ circuit ຂອງ semiconductors. ມັນຍັງຊ່ວຍໃນການວິເຄາະ in situ ຂອງໜົວ່າ mineral samples ບໍ່ໆກັບການແຂກ.

Brand: AGEM
AGEM ຕື້ມາການແຈ້ງເຕັອນ Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon, ແລະສີ່ສ່ວນນີ້ແມ່ນຄວາມສູບສີ້ນທີ່ຈະປ່ຽນແປງເทິກໂນໂລຊີ້ lasers. ສີ່ສ່ວນຂອງ flourine (F2), krypton, helium, ແລະ neon ກາຍເປັນຄວາມຖືກຕ້ອງແລະຄວາມຖືກຕ້ອງທີ່ບໍ່ມີໃນຫຼາຍການລຳດັບ.
ໃນການໃຊ້ Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon, KrF 248nm excimer laser ໄດ້ຜະເພີດ chùm ຜູ້ທີ່ສາມາດປຸ້ມແລະ ablate ການສຳເລັດກັບຄວາມຖືກຕ້ອງສູງ. TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 ບໍ່ໄດ້ເພີ່ມຄວາມສະເພາະ, ມັນຍັງເພີ່ມຄວາມສະເພາະທີ່ລົງຕື່ມ ແລະ ປ້ອມປາກ.
ໜຶງໃນຫົວຂໍ້ທີ່ເປັນຄຸນສຸດທີ່ແມ່ນກະລຸນາກັບ Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon ແມ່ນອິດສະຫຼະພາບຂອງມັນ. ມันສາມາດຖືກນຳໃຊ້ໄດ້ສຳລັບການເລືອກຕື່ມຂອງຄະແນນແລະອາ Thai ເປັນພິเศດຈາກ microelectronics ແລະ semiconductors ເຖິງອຸປະກອນທີ່ເປັນພິເສດ biotechnology research. ຄວາມແນວໜ້າຂອງມັນແມ່ນສູງແລະຄຸນແມ່ນຕ່ຳ, ເຮັດໃຫ້ມັນສົມບູນສຳລັບວັດຖຸທີ່ຍາວແລະຮູບແບບທີ່ສັບສົນ, ເຮັດໃຫ້ແນວທີ່ຕ້ອງການຖືກເອົາໄປທຸກຄັ້ງ.
ພະນັກງານເປັນສ່ວນຫນ້າທີ່ມີຄວາມສຳຄັນແລະ ມີຜົນປະໂຫຍດຕໍ່ AGEM Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon ເປັນສ່ວນປະສົບປະຊານທີ່ຖືກອອກແບບໃຫ້ສູງສຸດ ເພື່ອຮັກສາຄວາມສະເທິງແລະຄວາມສັງຄົມ. ນີ້ແມ່ນຄວາມສົມບູນທີ່ມີຄວາມສະເທິງ ແລະ ຕໍ່ໄປການຂັດແຍ່ງ ເພື່ອໃຫ້ມີຄວາມສຳເລັດສູງສຸດ. ອີງຕາມການຈັດການ ເພື່ອຫຼຸດຄວາມສັງຄົມ ແລະ ຄວາມສັງຄົມທີ່ສາມາດເປັນອັນຕະລາຍໄດ້ ເພື່ອໃຫ້ມີຄວາມສົມບູນທີ່ເປັນເພື່ອງທີ່ເປັນເພື່ອງ.
ລູກຄ້າທີ່ເລືອກ_excimer laser gas krf 248nm tuimix-ctmn-krf-v2.0 mixture gas f2,krypton,helium,neon_ ຈະໄດ້ຮັບການສະໜັບສະໜູນທີ່ດີທີ່ສຸດຈາກ AGEM. ພວກເຮົາມີພະນັກງານຊ່ຽວຊານທີ່ເປັນເຈົ້າຂອງ ເພື່ອຕອບສະຫນັບສະຫນູນ ແລະ ສະໜັບສະໜູນ ເພື່ອໃຫ້ສິນຄ້າມີຄວາມສຳເລັດສູງສຸດ. ພວກເຮົາຍັງມີລາຄາທີ່ແຂ່ງແຂ້ງ ແລະ ການສົ່ງທີ່ສົມບູນ ເພື່ອສົ່ງຄຳສັ່ງທີ່ສົມບູນ.