Verstehen Sie die Anwendung von Halbleiterpräkuroren in einem Artikel
Als Kernrohstoff des Dünnfilmabscheidungsprozesses umfassen Halbleiter-Vorstufen Epitaxie, chemische Gasphasenabscheidung (Chemical Vapor Material, Deposition, im Folgenden CVD genannt) und atomare Schichtabscheidung (Atomic Layer Deposition, im Folgenden ALD genannt), um die für die Halbleiterherstellung benötigten dünnen Filmmaterialien zu bilden, und werden in verschiedenen Bereichen der Halbleiterherstellung eingesetzt.