Nwyon Purdeb Uchel ar gyfer Electroneg Monofluoromethan 99.999% FC41 UN 2454 Halocarbon 41 Methyl Fflworid CH3F

Ymchwiliad

Trosolwg
Ymchwiliad
Cynhyrch perthnasol

Nwyon Purdeb Uchel ar gyfer Electroneg Monofluoromethan 99.999% FC41 UN 2454 Halocarbon 41 Methyl Fflworid CH3F

AGEM cynhyrchu a gwerthu nwy Monofluoromethane pur iawn (CH3F) i'w ddefnyddio yn y broses weithgynhyrchu sglodion lled-ddargludyddion.

Fflworomethan, a elwir hefyd yn fflworid methyl, Freon 41, Halocarbon-41 a HFC-41, yn nwy hylifadwy nad yw'n wenwynig ar dymheredd a phwysau safonol. Mae wedi'i wneud o garbon, hydrogen, a fflworin. Mae'r enw'n deillio o'r ffaith ei fod yn fethan (CH4) gydag atom fflworin yn lle un o'r atomau hydrogen. Fe'i defnyddir mewn prosesau gweithgynhyrchu lled-ddargludyddion fel nwy ysgythru mewn adweithyddion etch plasma.

Fflworomethan, Mae methyl fflworid (MeF) neu Halocarbon 41 yn nwy hylifadwy nad yw'n wenwynig a ddefnyddir wrth weithgynhyrchu cynhyrchion lled-ddargludyddion ac electronig. Ym mhresenoldeb maes RF mae'n daduno'n ïonau fflworin ar gyfer ysgythriad dethol o ffilmiau cyfansawdd silicon.

Cymhwyso:CH3F yn nwy arbenigol a ddefnyddir yn y broses weithgynhyrchu o sglodion lled-ddargludyddion ar gyfer micromachining ffilm nitrid gan ysgythru. Defnyddir CH3F yn bennaf wrth gynhyrchu sglodion cof lled-ddargludyddion gan gynnwys fflach NAND a DRAM sy'n gofyn am dechnoleg microbeiriannu. Gan fod ei ddetholusrwydd ysgythru yn uwch na rhai nwyon eraill, mae CH3F yn addas ar gyfer microbeiriannu strwythur aml-haen o fflach 3D NAND. Mae'r galw am CH3F wedi bod yn cynyddu'r dyddiau hyn oherwydd cychwyn llawer o linellau i gynhyrchu fflach 3D NAND.