Air Gas Electronic Materials Enterprise Co., Ltd.

Yn y stori hwn, mae llawyr syfydd wedi dod o hyd i gas arbennig, da i'w defnyddio yn y broses o etsio. Mae'r gas yn cael ei alw'n c3f8 gas : "C-drych-F-wyth. Mae'n chwarae rôl bwysig i wneud yn siŵr bod y broses o etsio yn gweithio'n gywir. Mae'r erthygl hon yn trafod defnydd C3F8 yn mynychu gas ar gyfer etsio, yn ogystal â'i fuddiant.

Beth yw Etsio?

Etsio: Mae'r broses o ddatreisiad drwy gymysgedd gofriniau yn gyfateb i'r ddisgrifiad llygadol o etsio. Mae gan hyn ddal amrywiad o resymau. Er enghraifft, efallai y byddwn am wneud dyluniau/cyfaint ddiddorol ar wyneb, neu defnyddio'r techneg i glirio beth sy'n lwcus. Pan fyddwch am etsio rywbeth yn well, mae cyfuno gasau yn cael ei ddefnyddio yn aml achos mae'n tynnu pethau o'r wyneb yn gyflymach na phopeth arall.

Mae cyfuniadau'r gas yn aml yn cynnwys amrywiad o gasau, gan gynnwys oxygen, nifen a fluorin. Mae'r holl gasau hyn yn helpu datrys y materiol rydym ni eisiau ei dynnu. Yn y gymhuniadau gas hyn, mae ychwanegu C3F8 yn gallu wella'r proses crymu [5]. Mae'r gas arbennig hwn yn chwarae rôl pwysig i greiddio ac archwilio'r brosesau crymu, sydd yn bwysig i fawr o diwylliant.

Sut Mae C3F8 yn Helpu Crymu?

Mae Perfluoropropane (C3F8) yn gas ddirgylchedd ag yw'n datrys cemistiau ar siofa. Mae ychwanegu C3F8 i gymhun gas reagfus yn gwneud y tynnu'r materiol yn llawer mwy effeithlon. Mae hefyd C3F8 yn cynyddu'r broses crymu, mewn ffordd pwysig drwy cynyddu dewisiadolrwydd.

Mae dewisiad yn gyfraddol i gymryd un fath o drefn allan wrth gadw fath arall. Mae'r dewisiad uchel hon ei angen, er enghraifft, i ymyrryd ar wyneb metel ond gan gadael lygad photoresist ar frig. Mae'r dewisiad hwn yn bwysig yn ystod yr ymyrru nes nad ydym am gymryd allan lygadau eraill sydd eu hangen ac mae C3F8 yn cynyddu'r dewisiad hwn.

Pryd mae C3F8 yn cael ei ddefnyddio?

Yn llawer o lefydd wleidyddol ble mae'r ymyrru'n bwysig iawn yn cael ei ddefnyddio gas c3f8 . Mae C3F8 yn cael llawer o defnyddion yn y cynllunio o drefnau electronig bychain drwyddo, MicroElectroMechanical Systems (MEMS), a phanelau sul wedi eu hargyhoeddi hefyd fel photovoltaics. Mae'r ymyrru yn broses pwysig yn y cynhyrchu o ddatblygiadau mewn y sector hwn, ac fe allwch chi ddefnyddio C3F8 i wella'r perfformiad ymyrru'n sylweddol.

Yn ddiweddarach, gallwch chi heffeithio ar y goblygiad o danfrydedd i'n arwydd yn y gwaith hefyd, yn ogystal â chymorth dewisol gan C3F8. Mae hyn yn fwy hanfodol ar gyfer defnyddiadau sydd yn cael eu cyfrif yn gyffredinol fel achosion lle gallai'r arwydd sydd yn cael ei phwyso fod yn anaddas i gysylltu â phumbyr ffisegol. Mae C3F8 yn caniatáu i'r arwyddau wedi'u gludro ni wneud arnyn nhw aros yn bresennol.

A Oes C3F8'n bwysig i'r Etcher?

Mae C3F8 yn un o'r rhanfeydd pwysicaf mwyaf sy'n penderfyn am perfformiad clud gyfan. Felly, mae C3F8 yn gwario bod gan wella dewisiadol a llai o danfrydedd ar y wyneb yn ystod y cludio, mae'r broses yn fwy gywir ac yn adlewyrchu'n well. Mae hyn yn caniatáu inni wneud mwy o blant (mewn maint, mwy o blant da) ac hefyd cynnyrch da iawn yn y cynyddedig.

Sut mae C3F8 yn gweithio yn y Cludio?

Cyn ddisodli amrywiaeth ymddygiad yn y cyfuniad gas reolaidd ar gyfer etching, mae angen dealltwriaeth sylfaenol o ddefnydd C3F8. Mae C3F8 yn gas sy'n gallu torri cemicaliau ar ddwyfol rhanedig. Mae hefyd yn creu llawer ffilm diogel a all fod ar ddefnydd i ddiogelu'r arwydd cyn cael ei gymryd yn ddamaged wrth i ni gweithio gyda hwn.

Mae'r defnydd o C3F8 yn y cyfuniadau gas reolaidd i'w defnydd ar gyfer etching yn anodd ac mae'n gofyn am sylw sylweddol i'r manylion. Ond gyda gwybodaeth gywir a datganiad o ddefnyddio C3F8, gall gael ei wneud yn atebion effeithiol i wella'r cynhyrchu a chywirdeb y brosesau etching.

Fel canlyniad, c4f8 gas a gall C3F8 gynnwys swyddogaeth berygl ar y cyd i helpu cynnal brosesau etching syml a datblyg. Fel gas etching, mae C3F8 yn ddefnyddiol yn wahanol ardaloedd drwy gwella dewisiadolrwydd, lleihau dioddef i'r arwynebedion, a thynnu'n sylw i gyfladdiad a chywirdeb yr ethin gyfan. Mae AGEM yn arbenigwr o gasau ddigon glir ac uchelglir, gan gynnwys crynodebau gas reolaidd ar gyfer ethin. Gellir cyfio ar agweddau AGEM a'u phrofiad er mwyn cynhyrchu cynnyrch terfynol o ansawdd uchel yn llawn.