Air Gas Electronic Materials Enterprise Co., Ltd.

Chúng ta phụ thuộc rất nhiều vào công nghệ của mình, nhưng khi bạn nhìn thấy những con chip nhỏ bé mà chúng ta sử dụng mỗi ngày ở dạng thuần khiết nhất, liệu chúng ta có từng thắc mắc về cách chúng được tạo ra chưa? Những máy khắc plasma, các máy móc xây dựng nên những con chip này. Những thiết bị tuyệt vời này sử dụng một loại khí gọi là gas c3f8 để khắc những hoa văn siêu nhỏ trên các tấm wafer silic. Khi những hoa văn này được tạo ra, chúng sẽ hình thành các mạch điện, cho phép máy tính, điện thoại thông minh hoặc các thiết bị khác hoạt động đúng chức năng. Những con đường điện mini này (hiểu nôm na là các mạch) là yếu tố thiết yếu để các thiết bị của chúng ta hoạt động đúng cách.

C3F8 là một loại khí bền mới với độ mạnh cao và khả năng chịu áp suất ở nhiệt độ cao được tìm thấy trong nhiều ngành công nghiệp. Điều này có nghĩa là nó lý tưởng cho việc sản xuất vi chip. Điều này sửa mọi thứ trong quá trình sản xuất vi chip bằng cách tăng đáng kể hiệu quả của quá trình etching plasma và C3F8. Nó cho phép chúng ta sản xuất các vi chip nhỏ gọn hơn đáng kể nhưng vẫn đảm bảo chất lượng tốt hơn.

Ứng dụng mới của C3F8 trong Etching

Máy etching plasma trước đây bị giới hạn về các vật liệu mà chúng có thể làm việc. Chúng có hiệu quả hạn chế trên một số vật liệu cụ thể. Tuy nhiên, C3F8, một giải pháp thay thế được phát hiện bởi các nhà nghiên cứu tại một công ty Nhật Bản tên là AGEM, đã chứng minh rằng nó rất hiệu quả trong việc etching các vật liệu khác nhau như silic, titan và hợp chất nhôm. Đây là một khám phá thú vị vì điều này có nghĩa là sẽ có nhiều ngành công nghiệp mới sản xuất vi chip mà trước đây có thể chưa cần đến.

Các nhà sản xuất bây giờ có thể sử dụng những vật liệu trước đây khó khắc蚀. Điều đó có nghĩa là họ có thể tạo ra các vi mạch phức tạp hơn nhiều và hiệu quả hơn so với trước đây. Khi chúng ta tiếp tục đẩy giới hạn của công nghệ, những vi mạch mới này có khả năng thực hiện các nhiệm vụ nhanh hơn và hiệu quả hơn trước đây, điều này rất quan trọng.

Hiệu suất Khắc Plasma Vượt qua Giới hạn Khí C3F8

Ví dụ, tại AGEM, các nhà công nghệ luôn cố gắng cải thiện phương pháp khắc plasma. Họ liên tục tìm kiếm sự tiến bộ trong việc khắc về mặt tốc độ và độ mịn bề mặt. Một phát hiện thú vị mà họ đã làm được là sử dụng C3F8 cho quy trình được gọi là khắc silicon sâu.

Và đúng vậy, có một quy trình đặc biệt để tạo hình 3D trên các tấm wafer silicon. Những cấu trúc 3D này có thể có nhiều ứng dụng trong cảm biến, microphone và lab-on-chip (tức là các thiết bị thu nhỏ có thể thực hiện các bài kiểm tra trên mẫu). Qua quá trình này, các nhà nghiên cứu có thể thiết kế các công cụ giải quyết các vấn đề thực tế.

Tác động của C3F8 đối với Công nghệ Nano và Phát triển Chip Micro

Công nghệ nano là khoa học ở mức độ siêu nhỏ, nhỏ hơn nhiều so với hạt cát. Chip micro khí c3f8 sản xuất là một dạng của công nghệ nano, vì các mạch nằm trên chip micro rất nhỏ. Mỗi thành phần vi mô của chip phải đồng bộ hóa để có thể hoạt động.

C3F8 cũng đã là một bước ngoặt cho công nghệ nano, đóng vai trò quan trọng trong việc phát triển nhiều chip micro nhỏ hơn và phức tạp hơn so với những gì từng được sản xuất trước đây. Những chip micro tinh vi này rất quan trọng cho các công nghệ mới như AI (trí tuệ nhân tạo, hoặc cho phép máy móc khả năng học hỏi và ra quyết định) và xe tự lái (xe có khả năng lái mà không cần sự can thiệp của con người). Những tiến bộ này có thể tạo ra sự khác biệt lớn trong cuộc sống của chúng ta và thay đổi cách chúng ta sống cùng với công nghệ.

Tiến bộ Công nghệ của C3F8 trong Etching Plasma

Công nghệ etch plasma đã trưởng thành kể từ những năm 1960, khi nó lần đầu tiên được sử dụng. AGMMP hiện đang là một trong những nhà lãnh đạo trên thị trường về việc etch plasma và phát triển công nghệ mới. Vâng, công ty không ngừng đổi mới để tối ưu hóa và đơn giản hóa quy trình.

Công nghệ etch plasma giúp tạo ra các con chip mini. Điều này đã cho phép các nhà sản xuất plasma Chất ăn mòn tạo ra các microchip phức tạp và nhỏ gọn hơn bằng khí C3F8 so với trước đây. Điều này đặc biệt quan trọng vì nhu cầu của chúng ta đối với công nghệ nhanh chóng và mạnh mẽ sẽ tiếp tục mở rộng theo thời gian và AGEM đang dẫn đầu trong công nghệ etch plasma. Và họ đảm bảo rằng tương lai của ngành sản xuất microchip sẽ tươi sáng và đầy cơ hội. Chúng ta phụ thuộc rất nhiều vào công nghệ và bất kỳ sự tiến bộ công nghệ nào trong tương lai cũng sẽ định hình cách chúng ta sống.