Công ty TNHH Vật liệu điện tử Air Gas

Chúng ta phụ thuộc rất nhiều vào công nghệ của mình, nhưng khi bạn nhìn thấy những vi mạch nhỏ mà chúng ta sử dụng hàng ngày ở dạng tinh khiết nhất, chúng ta có bao giờ tự hỏi chúng được tạo ra như thế nào không? Các máy khắc plasma, những cỗ máy tạo ra những vi mạch này. Những thiết bị đáng kinh ngạc này sử dụng một loại khí gọi là khí c3f8 để khắc các mẫu thu nhỏ trên các tấm wafer silicon. Khi các mẫu này được tạo ra, chúng sẽ tạo thành các mạch, cho phép máy tính hoặc điện thoại thông minh hoặc các thiết bị khác thực hiện đúng chức năng của nó. Các đường cao tốc điện nhỏ này (mạch đọc) rất cần thiết để các thiết bị của chúng ta hoạt động bình thường.

C3F8 là một loại khí bền mới có độ bền cao và chịu được nhiệt độ cao, chịu được áp suất được tìm thấy trong nhiều ngành công nghiệp. Điều này có nghĩa là nó lý tưởng cho sản xuất vi mạch. Điều này sửa chữa mọi thứ trong sản xuất vi mạch bằng cách tăng đáng kể hiệu ứng cho khắc plasma và C3F8. Nó cho phép chúng tôi sản xuất vi mạch nhỏ gọn hơn đáng kể nhưng vẫn có chất lượng cao hơn.

Công dụng mới của phương pháp khắc C3F8

Máy khắc plasma trước đây bị hạn chế về vật liệu mà chúng có thể làm việc. Chúng có hiệu quả hạn chế trên các vật liệu cụ thể. Tuy nhiên, C3F8, một giải pháp thay thế được các nhà nghiên cứu tại một công ty Nhật Bản có tên là AGEM phát hiện ra có hiệu quả đáng ngạc nhiên trong việc khắc nhiều loại vật liệu khác nhau như hợp chất silicon, titan và nhôm. Đây là một khám phá thú vị vì điều đó có nghĩa là phải có rất nhiều ngành công nghiệp mới chế tạo vi mạch mà trước đây có thể không cần thiết.

Các nhà sản xuất hiện có thể sử dụng các vật liệu trước đây khó khắc. Điều đó có nghĩa là họ có thể chế tạo các vi mạch phức tạp hơn nhiều và hiệu quả hơn so với trước đây. Khi chúng ta tiếp tục đẩy mạnh giới hạn công nghệ của mình, các vi mạch mới này có thể thực hiện các tác vụ nhanh hơn và hiệu quả hơn trước đây, điều này rất quan trọng.

Hiệu suất khắc Plasma vượt quá giới hạn khí C3F8

Ví dụ, tại AGEM, các nhà công nghệ liên tục cố gắng cải thiện các phương pháp khắc plasma. Họ liên tục tìm kiếm sự tiến bộ trong quá trình khắc liên quan đến độ mờ và tốc độ. Một phát hiện thú vị mà họ đưa ra là sử dụng C3F8 cho một quy trình được gọi là khắc silicon sâu.

Và đúng vậy, có một quy trình đặc biệt để tạo hình dạng 3D trên các tấm wafer silicon. Các cấu trúc 3D này có thể có nhiều ứng dụng khác nhau trong cảm biến, micrô và phòng thí nghiệm trên chip (tức là các thiết bị thu nhỏ có thể thực hiện thử nghiệm trên mẫu). Thông qua quá trình đúc này, các nhà nghiên cứu có thể thiết kế các công cụ có thể giải quyết các vấn đề hữu hình.

Tác động của C3F8 đến sự phát triển của công nghệ nano và vi mạch

Công nghệ nano là khoa học ở cấp độ thu nhỏ, nhỏ hơn nhiều so với hạt cát. Vi mạch khí c3f8 sản xuất là một loại công nghệ nano, vì các mạch nằm trên một vi mạch rất nhỏ. Mỗi thành phần vi mô của vi mạch phải đồng bộ hóa để hoạt động.

C3F8 cũng là một bước ngoặt đối với công nghệ nano, đóng vai trò quan trọng trong việc phát triển nhiều vi mạch nhỏ hơn và phức tạp hơn so với trước đây. Những vi mạch tinh vi này rất quan trọng đối với các công nghệ mới như AI (trí tuệ nhân tạo, hoặc cung cấp cho máy móc khả năng học hỏi và đưa ra quyết định) và xe tự lái (xe tự lái mà không cần sự can thiệp của con người). Những tiến bộ này có thể tạo ra sự khác biệt lớn trong cuộc sống của chúng ta và thay đổi cách chúng ta sống với công nghệ.

Tiến bộ công nghệ của C3F8 trong khắc Plasma

Công nghệ khắc plasma đã phát triển từ những năm 1960, khi nó được sử dụng lần đầu tiên. AGMMP hiện là một trong những công ty dẫn đầu thị trường về khắc plasma và phát triển công nghệ mới. Vâng, công ty liên tục đổi mới để hợp lý hóa và tối ưu hóa nó.

Khắc plasma làm cho chip thu nhỏ có thể thực hiện đượcĐiều này đã cho phép plasma khắc các nhà sản xuất tạo ra các vi mạch phức tạp và nhỏ gọn hơn bằng cách sử dụng khí C3F8 so với trước đây. Điều này đặc biệt có liên quan vì nhu cầu về công nghệ nhanh hơn, mạnh mẽ hơn của chúng ta sẽ tiếp tục mở rộng theo thời gian và AGEM đang đi đầu trong công nghệ khắc plasma. Và họ đang đảm bảo tương lai của sản xuất vi mạch tươi sáng và đầy cơ hội. Chúng ta phụ thuộc rất nhiều vào công nghệ và bất kỳ tiến bộ công nghệ nào xảy ra trong tương lai sẽ định hình cách chúng ta sống.