EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
Газ Високої Чистоти Для Електроніки Монофторметан 99.999% FC41 UN 2454 Галокарбон 41 Метилфторид CH3F
- Огляд
- Запит
- Суміжні продукти
Газ Високої Чистоти Для Електроніки Монофторметан 99.999% FC41 UN 2454 Галокарбон 41 Метилфторид CH3F
AGEM виробляє і продає газ монофторметану високої чистоти (CH3F) для використання у процесі виготовлення чипів полупроводників.
Фторометан, також відомий як метилфторид, Фреон 41, Галокарбон-41 та HFC-41, є небезпечним, розчинним у рідинному стані газом при стандартній температурі та тиску. Він складається з вуглецю, водню та фтору. Назва походить від того, що це метан (CH4) з атомом фтору, який замінив один із атомів водню. Використовується у процесах виготовлення напівпровідників як етчуючий газ у плазменних етчуючих реакторах.
Фторометан, більш поширено називається метилфторид (MeF) або Галокарбон 41 — це безпечний для життя розчинний у рідинному стані газ, який використовується при виготовленні напівпровідників та електронних продуктів. У присутності РЧ-поля він диссоціює на іони фтору для селективного етчую чолодних шарів кремнієвих сполук.
Застосування :CH3F є спеціальним газом, який використовується у процесі виготовлення чипів півпровідників для мікромашинування нітрідної плівки шляхом етчингу. CH3F головним чином використовується при виготовленні пам'яткових чипів півпровідників, включаючи NAND флеш і DRAM, де потрібна технологія мікромашинування. Оскільки його етчингова вибірка вища за ті, що у інших газів, CH3F придатний для мікромашинування багатошарової структури 3D NAND флеш. Запит на CH3F зростає цими днями через запуск багатьох ліній для виготовлення 3D NAND флеш.
