EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
НЕМАЄ
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
Гази високої чистоти для електроніки Монофторметан 99.999% FC41 UN 2454 Halocarbon 41 Метилфторид CH3F Україна
- огляд
- Запит
- Супутні товари
Гази високої чистоти для електроніки Монофторметан 99.999% FC41 UN 2454 Halocarbon 41 Метилфторид CH3F
AGEM виробляти та продавати високочистий газ монофторметан (CH3F), який буде використовуватися у процесі виробництва напівпровідникових мікросхем.
фторметан, також відомий як метилфторид, фреон 41, галогенкарбон-41 і HFC-41, є нетоксичним скрапленим газом за стандартної температури та тиску. Він складається з вуглецю, водню та фтору. Назва походить від того факту, що це метан (CH4) з атомом фтору замість одного з атомів водню. Він використовується в процесах виробництва напівпровідників як газ для травлення в реакторах плазмового травлення.
фторметан, частіше званий метилфторид (MeF) або Halocarbon 41 – це нетоксичний зріджений газ, який використовується у виробництві напівпровідникових та електронних виробів. У присутності радіочастотного поля він дисоціює на іони фтору для селективного травлення плівок сполуки кремнію.
додаток:CH3F це спеціальний газ, який використовується у процесі виробництва напівпровідникових мікросхем для мікрообробки нітридної плівки шляхом травлення. CH3F в основному використовується у виробництві напівпровідникових мікросхем пам’яті, включаючи флеш-пам’ять NAND і DRAM, для яких потрібна технологія мікрообробки. Оскільки його селективність травлення вища, ніж у інших газів, CH3F підходить для мікрообробки багатошарової структури флеш-пам’яті 3D NAND. Попит на CH3F зростає в ці дні через запуск багатьох ліній для виробництва флеш-пам’яті 3D NAND.
