Узнайте о применении предшественников полупроводников в одной статье. Россия
В качестве основного сырья для процесса осаждения тонких пленок прекурсоры полупроводников включают процессы эпитаксии, химического осаждения из паровой фазы (химическое осаждение из паровой фазы, называемое CVD) и осаждение атомного слоя (осаждение атомного слоя, называемое ALD) для формирования различных тонкопленочные материалы, необходимые для производства полупроводников. , используемый в различных областях производства полупроводников.