toate categoriile
ENEN

CF4

Acasă >  Produse >  halocarburi >  CF4

TOATE

Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%
Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%

Preț de fabrică, grad electronic 5N, gaz tetrafluormetan CF99.999 de înaltă puritate 4%

Anchetă
  • Descriere
  • Anchetă
  • Produse asemănătoare

Informații despre produs:

Tetrafluorura de carbon este un agent frigorific criogenic care este relativ inert în condiții normale, un dislocator de oxigen și este, de asemenea, utilizat în diferite procese de gravare a plachetelor.

CF4 este în prezent cel mai utilizat gaz de gravare cu plasmă în industria microelectronică. Poate fi utilizat pe scară largă în gravarea materialelor cu film subțire, cum ar fi siliciul, dioxidul de siliciu, nitrura de siliciu, sticla fosfosilicata și wolfram și în curățarea suprafețelor dispozitivelor electronice și celulelor solare. De asemenea, este utilizat pe scară largă în producția de tehnologie laser, izolație în fază gazoasă, refrigerare la temperatură joasă, agenți de detectare a scurgerilor, controlul atitudinii rachetelor spațiale și agenți de decontaminare în producția de circuite imprimate. 
Datorită stabilității chimice a tetrafluorurii de carbon, tetrafluorura de carbon poate fi utilizată în industria de topire a metalelor și a materialelor plastice.

Contactați-ne