Air Gas Electronic Materials Enterprise Co., Ltd.

Ne bazăm atât de mult pe tehnologia noastră, dar când vedem acele micropuce pe care le folosim fiecare zi sub forma lor cea mai pură, ne-am întrebat vreodată cum sunt fabricate? Etcher-ii cu plasma, mașinile care construiesc aceste puce. Aceste dispozitive incredabile utilizează un gaz numit gaz c3f8 pentru a crea modele miniaturizate pe plăci de siliciu. Când aceste modele sunt create, ele formează circuitele care permit computerului sau smartphone-ului sau altor dispozitive să facă treaba lor corect. Aceste autostrăzi electrice mini (citeste circuite) sunt esențiale pentru ca dispozitivele noastre să funcționeze corespunzător.

C3F8 este un gaz persistent nou cu o putere mare și proprietăți rezistente la presiune și temperaturi ridicate, găsit în multe industrii. Acest lucru înseamnă că este ideal pentru fabricarea microcircuite. Acesta repara totul în fabricarea microcircuitelor prin creșterea semnificativă a efectului pentru etajarea cu plasmă și C3F8. Ne permite să fabricăm microcircuite care sunt notorii mai compacte și totuși de o calitate superioară.

Noi utilizări pentru etajarea cu C3F8

Etajoarele cu plasmă erau limitate anterior în ceea ce privește materialele cu care puteau să lucreze. Aveau o eficacitate limitată pe anumite materiale. Cu toate acestea, C3F8, o alternativă descoperită de cercetători dintr-o companie japoneză numită AGEM, s-a dovedit a fi surprinzător de eficientă în etajarea diverselor materiale, cum ar fi siliciul, titanul și compușii de aluminiu. Aceasta este o descoperire entuziasmătoare deoarece înseamnă că trebuie să apară atât de multe noi industrii care produc microcircuite care nu erau necesare anterior.

Producătorii pot acum să folosească materiale care anterior erau dificil de etalat. Acest lucru înseamnă că ei pot fabrica microcircuite mult mai complexe și, bineînțeles, eficiente decât în trecut. Pe măsură ce continuăm să împingem limitele tehnologiei noastre, aceste noi microcircuite pot să efectueze sarcini mai repede și mai eficient decât înainte, ceea ce este foarte important.

Performanță a Etalajului cu Plasma Dincolo de Limitele Gazei C3F8

De exemplu, la AGEM, tehnologii încearcă în mod constant să îmbunătățească metodele de etalaj cu plasma. Ei sunt mereu pe căutare după progrese în etalaj în legătură cu viteza și precizia matantei. O descoperire interesantă pe care au făcut-o a fost utilizarea C3F8 pentru un proces cunoscut sub numele de etalaj profund al siliciului.

Și da, există un proces special pentru a crea forme 3D pe placi de siliciu. Aceste structuri 3D pot avea aplicabilitate variată în senzori, microfoane și laborator pe placa (adică dispozitive miniaturizate care pot efectua teste pe probe). Prin acest modelare, cercetătorii pot să conceapă instrumente care să rezolve probleme practice.

Impactul C3F8 asupra Nanotehnologiei și Dezvoltării Microcircuitelor

Nanotehnologia este o știință la un nivel miniaturizat, mult mai mic decât cârșugurile de nisip. Microcircuit gaz c3f8 producerea este un tip de nanotehnologie, deoarece circuitele situate pe un microcircuit sunt foarte mici. Fiecare componentă microscopica a chipului trebuie să se sincronizeze pentru a funcționa.

C3F8 a fost de asemenea un schimbător de joc în ceea ce privește nanotehnologia, având un rol important în dezvoltarea multor microcircuite mai mici și mai complexe decât oricare produse anterior. Aceste microcircuite sofisticate sunt esențiale pentru noile tehnologii precum IA (inteligenta artificială, sau conferirea mașinilor abilității de a învăța și a lua decizii) și vehiculele autonome (vehicule care se conduc singure fără intervenție umană). Aceste progrese pot avea un impact major asupra vieții noastre și pot schimba modul în care trăim cu tehnologia.

Progrese Tehnologice ale C3F8 în Etchare cu Plasma

Tehnologia de etalaj plasma s-a dezvoltat din anii 1960, când a fost folosită pentru prima dată. AGMMP este acum una dintre liderele de pe piață în ceea ce privește etalajul cu plasma și dezvoltarea de noi tehnologii. Ei bine, compania inovează în mod constant pentru a optimiza și a îmbunătăți această tehnică.

Etalajul cu plasma permite realizarea de circuite integrate miniaturizate. Acest lucru a permis producătorilor de plasma Etalanti să realizeze microcircuite mai complexe și mai compacte folosind gazul C3F8 decât era posibil anterior. Acest lucru este deosebit de relevant, deoarece nevoia noastră de tehnologie rapidă și puternică va continua să crească cu timpul, iar AGEM se află în fruntea tehnologiei de etalaj cu plasma. Ei se asigură că viitorul fabricației de microcircuite este luminos și plin de oportunități. Depindeți foarte mult de tehnologie și orice progres tehnic viitor va defini modul în care trăim.