EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NÃO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
ArF F2 Argônio Mistura Laser Gás Para Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser Gás cilindro
- Visão geral
- Informações
- Produtos relacionados
ArF F2 Mistura de argônio Laser Gas para Alcon Allegretto Wavelight 400Hz
As misturas de gases Excimer Laser são uma combinação de gases raros (argônio, criptônio, xenônio ou néon) e gases halogênio (flúor ou cloro). A mistura de gases determina o comprimento de onda da luz DUV produzida. Argônio+flúor+neon (193nm) e Krypton+flúor+neon (248nm) são as duas misturas mais comuns usadas. Em termos de volume; o néon representa aproximadamente 96–97.5% da mistura.
As misturas de gases Excimer Laser são uma combinação de gases raros (argônio, criptônio, xenônio ou néon) e gases halogênio (flúor ou cloro). A mistura de gases determina o comprimento de onda da luz DUV produzida. Argônio+flúor+neon (193nm) e Krypton+flúor+neon (248nm) são as duas misturas mais comuns usadas. Em termos de volume; o néon representa aproximadamente 96–97.5% da mistura.
Categoria | Componente (%) | Gás de equilíbrio |
Gás de mistura de laser He-Ne | 2~8.3 Ne | He |
Gás de mistura de laser CO2 | 0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr | / |
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO | ||
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO | ||
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO | ||
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO | ||
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr | ||
Gás de mistura de laser Kr-F2 | 5 Cr+ 10 F2 | / |
5 Cr+ 1~0.2 F2 | ||
Gás laser de feixe selado | 18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO | / |
Excimer Laser | 25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2 | Ar |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2 | He | |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2 | He | |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl | A |
Gases Excimer para modelos parciais | ||||||
Marcas | Wavelength | Cilindro | Valve | |||
COERENTE | 193nm | 20 L | DIN 8 | |||
B&L | 193nm | 20 L / 50 L | DIN 8/ DIN 14 | |||
ZEISS | 193nm | 10L/20L | DIN 8 | |||
VISX | 193nm | 16 L | CGA 679 | |||
NIDEK | 193nm | 16 L | CGA 679 | |||
MIRA LASER | 193nm | 10 L | CGA 679 | |||
Alcon | 193nm | 16 L | CGA 679 | |||
SCHWIND | 193nm | 20 L | DIN 8/ DIN 14 | |||
SUMMIT | 193nm | 16 L | CGA 679 | |||
Outras aplicações do laser ArF incluem a produção de circuitos integrados semicondutores. Também facilita a análise in situ de amostras minerais com base no processo de ablação.
Porque Escolher a EIKTO
Descrição dos Produtos
Detalhes Imagens
Perfil
Advantage
Aplicação
Embalagem e compras
Perguntas frequentes
Logística
