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Correção visual a laser VISX Alcon Zeiss Nidex Gás ArF Argônio F2 Hélio Neônio Gás Excimer
| Gases de excímero para modelos parciais | |||
| Marca | Comprimento de onda | Cilindro | Válvula |
| Coerente | 193nm | 20 L | DIN 8 |
| B & L | 193nm | 20 L/50 L | DIN 8/DIN 14 |
| Zeiss | 193nm | 10L/20 L | DIN 8 |
| VISX | 193nm | 16 L | CGA 679 |
| NIDEK | 193nm | 16 L | CGA 679 |
- Visão Geral
- Investigação
- Produtos relacionados
Misturas de gás a laser de excímer são uma combinação de gases nobres (argônio, criptônio, xenônio ou néon) e gases halogênios (flúor ou cloro). A mistura de gases determina o comprimento de onda da luz DUV produzida. Argônio+flúor+néon (193nm) e Criptônio+flúor+néon (248nm) são as duas misturas mais comuns usadas. Em termos de volume; néon compõe aproximadamente 96–97,5% da mistura.
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Categoria
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Componente (%)
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Gás de Balanceamento
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Gás de Mistura para Laser He-Ne
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2~8.3 Ne
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He
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Gás de Mistura para Laser CO2
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0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr
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/
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0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO
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0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO
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|
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO
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|
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO
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0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr
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Gás de Mistura a Laser de Kr-F2
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5 Kr+ 10 F2
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/
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5 Kr+ 1~0.2 F2
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|
Gás a Laser de Feixe Selado
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18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO
|
/
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|
Laser excimer
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25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2
|
AR
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25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2
|
He
|
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|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2
|
He
|
|||
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl
|
A
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Gases de excímero para modelos parciais
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Marca
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Comprimento de onda
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Cilindro
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Válvula
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Coerente
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193nm
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20 L
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DIN 8
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B & L
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193nm
|
20 L/50 L
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DIN 8/DIN 14
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Zeiss
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193nm
|
10L/20 L
|
DIN 8
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VISX
|
193nm
|
16 L
|
CGA 679
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NIDEK
|
193nm
|
16 L
|
CGA 679
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LASERSIGHT
|
193nm
|
10 L
|
CGA 679
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|
Alcon
|
193nm
|
16 L
|
CGA 679
|
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SCHWIND
|
193nm
|
20 L
|
DIN 8/DIN 14
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SUMMIT
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193nm
|
16 L
|
CGA 679
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Outras aplicações do laser ArF incluem a produção de circuitos integrados semicondutores. Ele também facilita a análise in situ de amostras minerais com base no processo de ablação.
AGEM
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