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Informação do produto:
O tetrafluoreto de carbono é um refrigerante criogênico relativamente inerte em condições normais, um deslocador de oxigênio e também é usado em vários processos de gravação de wafer.
CF4 é atualmente o gás de gravação a plasma mais utilizado na indústria microeletrônica. Pode ser amplamente utilizado na gravação de materiais de película fina, como silício, dióxido de silício, nitreto de silício, vidro fosfosilicato e tungstênio, e na limpeza de superfícies de dispositivos eletrônicos e células solares. Também é amplamente utilizado na produção de tecnologia laser, isolamento de fase gasosa, refrigeração de baixa temperatura, agentes de detecção de vazamentos, controle de atitude de foguetes espaciais e agentes de descontaminação na produção de circuitos impressos.
Devido à estabilidade química do tetrafluoreto de carbono, o tetrafluoreto de carbono pode ser usado na fundição de metais e nas indústrias de plástico.