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Informações do produto:
Tetrafluoreto de carbono é um refrigerante criogênico que é relativamente inerte em condições normais, um deslocador de oxigênio, e também é usado em vários processos de etching de wafer.
O CF4 é atualmente o gás de etching por plasma mais amplamente utilizado na indústria de microeletrônica. Ele pode ser amplamente utilizado na etching de materiais de filmes finos, como silício, dióxido de silício, nitreto de silício, vidro fosfossilicato e tungstênio, e na limpeza de superfícies de dispositivos eletrônicos e células solares. Também é amplamente utilizado na produção de tecnologia a laser, isolamento em fase gasosa, refrigeração a baixa temperatura, agentes de detecção de vazamentos, controle da atitude de foguetes espaciais e agentes de descontaminação na produção de circuitos impressos.
Devido à estabilidade química do tetrafluoreto de carbono, o tetrafluoreto de carbono pode ser usado nas indústrias de metalurgia e plástico.
