All Categories

ab alibaba

domum >  ab alibaba

ArF F2 Argon Mixture Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser Gas cylindrici

  • Overview
  • Inquiry
  • Related Products

Introducendis, Agem ArF F2 Argon Mixturam Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Gas cylindrici. Productum hoc designatum est ad optimam observantiam pro laseris systematis providere. Cum suo potenti mixtione ArF F2 et Argon Mixtura, haec cylindrus miram constantiam ac stabilitatem praebet.

 

AGEM ArF F2 Argon Mixtura Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Gas cylindri Laser compatitur amplis systematis laseris, incluso Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser. Productum hoc machinatum est ut superiorem observantiam per longius tempus offerat, verisimilitudo minuendi systematis defectum vel down tempus ob instabilitatem gasorum.

 

Cylindrus praecipuis materiis utitur quae efficiunt ut felis purus sit ac purus ab immunditia. Hae materiae diligenter selectae sunt ad praestandum vaporem nullis contaminantibus contaminatum, qui notas trabis laseris mutare possent.

 

AGEM ArF F2 Argon Mixtura Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Gas cylindrus Laser etiam tutum est uti. Cylindrus tuto mente designatus est, incorporandi notas quae impediunt gas ne diffluere vel reagere cum aliis substantiis. Accedit, quod productum est omnibus necessariis ad salutem signis obsecundans, ut ratio tua secura sit et sine periculo ad baculum operetur.

 

Productum hoc quoque parabilis pretio promptum est. AGEM ArF F2 Argon Mixtura Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Gas cylindrus Laser est certatim pretium productum quod praestantem valorem pro pecunia tua praebet. Optimum compositum offert qualitatem perficiendi et praebendi, sino vos ut superiores consequimini sine insignibus sumptibus


ArF F2 Argon Mixture Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz

Excimer laser mixturae gasi mixtae sunt vapores rariores (argon, krypton, xenon, vel neon) et gasorum halogen (fluorini vel chlorini). Mixtio gasorum ad necem DUV lucis productae determinat. Argon+fluorinum+neon (193nm) et Krypton+fluorinum+neon (248nm) sunt duo mixtura frequentissima adhibita. in tomo culo; Neo facit circa 96-97.5% mixtionis
Category
Pars %
Libra Gas


He-Ne Laser Mixture Gas
2~8.3 Ne
He


CO2 Laser Mixture Gas
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr
/


0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr
Kr-F2 Laser Mixtura Gas
5 Kr+ 10 F2
/


5 Kr+ 1~0.2 F2
Tignum laser Gas
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO
/


Laser Excimer
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2
Ar


25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2
He

25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2
He

25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl
A

   Excimer gasorum exempla partiales
Brand
necem
cylindro
CYMBALON



COHERENS
193nm
20 I.
Signa 8



B & L
193nm
20 L / L LXVIII
DIN 8/DIN 14



ZEISS
193nm
10L/20 L
Signa 8



VISX
193nm
16 I.
679 CGA



Nidek
193nm
16 I.
679 CGA



LASERSIGHT
193nm
10 I.
679 CGA



Alconis habes
193nm
16 I.
679 CGA



SCHWIND
193nm
20 I.
DIN 8/DIN 14



CAPUT
193nm
16 I.
679 CGA



Aliae applicationes ArF laseris productio semiconductoris circuitus integrati includunt. Etiam faciliorem facit in situ analysis exemplorum mineralium secundum ablationem processus

Why Choose Us
Products Description
details Images
Company Profile
commodum
Applicatio
Packaging& Shopping
FAQ
Morsus Mihi

PRAECIPIO CONTRACTO