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제품 정보:

사불화탄소는 정상적인 조건에서 상대적으로 불활성인 극저온 냉매이자 산소 치환제이며 다양한 웨이퍼 에칭 공정에도 사용됩니다.

CF4는 현재 마이크로 전자공학 산업에서 가장 널리 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다. 실리콘, 이산화규소, 질화규소, 인규산염 유리, 텅스텐과 같은 박막 재료의 에칭과 전자 장치 및 태양 전지의 표면 세척에 널리 사용될 수 있습니다. 또한 레이저 기술, 기상 절연, 저온 냉동, 누출 감지제, 우주 로켓의 자세 제어 및 인쇄 회로 생산의 오염 제거제 생산에도 널리 사용됩니다. 
사불화탄소의 화학적 안정성으로 인해 사불화탄소는 금속 제련 및 플라스틱 산업에 사용될 수 있습니다.

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