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제품 정보:
사불화탄은 일반적인 조건에서 비교적 비활성인 저온 냉각제이며, 산소 배출가스로도 사용되며 다양한 웨이퍼 식각 공정에도 사용됩니다.
CF4는 현재 마이크로전자 산업에서 가장 널리 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다. 실리콘, 실리콘 디옥사이드, 실리콘 나이트라이드, 인 함유 실리콘 글래스 및 텅스텐과 같은 박막 재료의 에칭에 널리 사용되며, 전자 장치 및 태양전지의 표면 청소에도 사용됩니다. 또한 레이저 기술, 기체 절연, 저온 냉동, 누출 탐지제, 우주 로켓의 자세 제어, 인쇄 회로 생산에서의 제독제 등에서도 광범위하게 사용됩니다.
탄화수소의 화학적 안정성 때문에, 사불화탄소는 금속 용해 및 플라스틱 산업에서 사용될 수 있습니다.