반도체 칩 제조에 사용되는 가스

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  칩 생산에서 가스의 중요한 역할 해부하기

  가스는 청정실을 깨끗하게 유지하는 데만 사용되는 것이 아니라 칩 제조 과정에서 중요한 반응제로도 사용됩니다. 칩의 여러 층을 형성하는 데 있어 가스의 독특한 역할은 매우 필수적이며, 이는 칩이 작동하기 위해 필요한 전기를 전달하기 때문입니다. 이러한 층들은 가스 없이는 만들 수 없습니다. 따라서 가스는 특별한 방식으로 이러한 층들을 형성하며 모든 조건을 적절히 유지합니다. 또한 가스는 작은 입자들이 칩을 손상시키지 않도록 청소 과정에서도 사용됩니다. 이 청소 과정은 칩의 품질을 보장하는 데 매우 중요합니다.

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  반도체 칩 제조에 사용되는 다양한 가스 이해하기

  칩 제조에 사용되는 가스는 여러 종류가 있습니다. 더 일반적인 것은 질소, 산소 및 수소입니다. 질소는 산화를 방지하고 클린룸의 공기 품질을 정확히 제어하기 위한 중요한 구성 요소입니다. 이는 칩 제작 과정에서 모든 것이 원활하게 진행되도록 보장합니다. 산소는 전기 흐름이 가능한 층의 용량을 강화하기 위해 극미량으로 사용됩니다. 이를 없애면 칩이 덜 효과적으로 작동할 것입니다. 반대로, 칩은 수소로 처리되어 장치가 더 잘 작동할 수 있도록 독특한 층을 형성합니다. 이러한 각 가스는 최고의 칩을 구현하기 위해 협력하는 하나 이상의 추가 요소를 가지고 있습니다.

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  가스 전달 시스템과 반도체 생산에 미치는 영향

  칩 제조에 가스를 사용하려면 특수 장비가 필요합니다. 가스 전달 시스템. 가스 전달 시스템은 적절한 양의 사용을 보장하기 때문에 필수적인 부분입니다. 이는 매우 중요합니다! 과도하거나 부족한 가스는 칩이 사용될 수 없게 만들 수 있습니다. 올바른 칩을 얻으려면 적절한 가스 전달이 필요합니다. 이렇게 하면 모든 것이 완벽한 칩이 만들어질 수 있도록 충분한 공간에서 작동할 수 있도록 확실히 해줍니다.

Why choose AGEM 반도체 칩 제조에 사용되는 가스?

• 전문가 맞춤형 가스 솔루션

  AGEM은 특수 가스에 대한 다양한 고객들의 독특한 요구 사항을 인식합니다. 예를 들어, 교정 가스와 같은 경우, 우리는 고객의 특정 필요에 맞는 맞춤형 솔루션을 제공할 수 있습니다. 특정 순도 수준, 실린더 크기 또는 포장 옵션이 필요한 경우 AGEM은 제품을 귀하의 정확한 요구 사항에 따라 조정할 수 있습니다. 이러한 수준의 맞춤화는 귀하가 특정 응용 프로그램을 교정하기 위한 최고의 가스 실린더를 받을 수 있도록 보장하여 전체 효율성과 성능을 향상시킵니다. AGEM의 제품 라인은 교정 가스에만 국한되지 않습니다. 그들의 카탈로그에는 탄화수소 가스, 화학 가스 할로카본, 희귀 가스 및 연구와 산업에 사용되는 다양한 다른 가스들이 포함되어 있습니다. 즉, AGEM이 귀하가 필요한 정확한 가스를 제공할 수 있다는 것을 믿으실 수 있습니다.

• 전문 가스 제조 및 연구 개발 공장

  AGEM은 대만에서 25년 이상 운영되어 왔습니다. 우리는 이 분야에서 광범위한 연구 개발 역량을 보유하고 있으며, 6개의 다른 지역에서 특수 대량가스, 교정가스 분야에서 독특한 전문성을 제공할 수 있습니다. 대만 - 카오슝 시 (본사, 연구개발 센터) 인도 - 뭄바이, 바도다라, 코임바토르, 푸네, 벵갈루루, 델리 중국 - 우한 중동 - 두바이 (아랍에미레이트), 사우디아라비아 연합왕국 - 캠브리지 우리의 가스 솔루션은 기술 컨설팅, 조립 및 가동, 샘플 테스트, 포장 및 선적, 도면 설계, 제조로 구성됩니다.

• 우수한 듀아 탱크 저온 용기

  AGEM은 액체 산소, 아르곤 이산화탄소, 질소 및 일산화질소와 같은 일반적으로 사용되는 초저온 가스 및 액체를 보관할 수 있는 여러 가지 크리오 탱크를 제공합니다. 우리는 최고의 성능을 보장하기 위해 수입 밸브 및 장비를 사용합니다. 가스 절약 장치를 사용하고 기체상에서의 압력 가스 사용을 우선시하세요. 이중 안전 밸브는 안전한 작동을 위해 확실한 보장을 제공합니다. 우리는 일반적으로 사용되는 초저온 액체를 수용할 수 있는 다양한 크리오 탱크를 제공합니다. 선택할 수 있습니다: 전체 용량: 80L/100L/175L/195L/210L/232L/410L/500L/1000L 작업 압력: 1.37MPa/2.3MPa/2.88MPa/3.45MPa 내부 탱크 설계 온도는 -196°C 외부 탱크 설계 온도: +50°C/+20°C 단열: 다층 감싸기로 진공 처리 저장 매체: LO2, LN2, LAr, LCO2, LNG

• 완벽한 사전 및 사후 서비스 시스템

  반도체 칩 제조에 사용되는 가스 탱크의 누출은 가장 큰 문제 중 하나일 수 있습니다. 우리는 품질을 보장하기 위해 5회 이상 누출 테스트를 수행합니다. 당사에서는 완벽한 생산 및 테스트 라인과 엄격한 품질 관리 적용뿐만 아니라 완벽한 사후 서비스 시스템을 통해 고객이 최상의 품질 제품과 포괄적인 서비스를 받을 수 있도록 하고 있습니다. 품질과 고객 서비스에 대한 우리의 헌신은 매우 자랑스러운 부분입니다. 높은 기술력을 갖춘 전문가 팀이 항상 귀하를 지원하고 필요를 충족시킬 수 있도록 돕고 있습니다. 우리의 24/7 서비스는 우리를 차별화시킵니다. 우리는 매일, 하루 종일, 단 한 날도 빠짐없이 귀하를 위해 여기 있습니다.

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