გაიგეთ ნახევარგამტარული წინამორბედების გამოყენება ერთ სტატიაში საქართველო
როგორც თხელი ფირის დეპონირების პროცესის ძირითადი ნედლეული, ნახევარგამტარული წინამორბედები მოიცავს ეპიტაქსიას, ქიმიურ ორთქლის დეპონირებას (Chemical Vapor Material, Deposition, მოხსენიებული, როგორც CVD) და ატომური შრის დეპონირება (Atomic Layer Deposition, მოხსენიებული, როგორც ALD) პროცესები, რომლებიც წარმოქმნიან სხვადასხვა პროცესებს. თხელი ფირის მასალები, რომლებიც საჭიროა ნახევარგამტარების წარმოებისთვის. , გამოიყენება ნახევარგამტარების წარმოების სხვადასხვა დარგში.