すべてのカテゴリ

アリババから

ホームペーじ >  アリババから

エキシマレーザーガス KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 混合ガス F2,クリプトン,ヘリウム,ネオン

一部モデル用のエキシマーガス
ブランド 波長 シリンダ バルブ
一貫性 248nm 10リットル DIN 8/JIS
B & L 193nm 20 L/50 L DIN 8/DIN 14
Zeiss 193nm 10L/20 L DIN 8
VISX 193nm 16 L CGA 679
NIDEK 193nm 16 L CGA 679
  • 概要
  • 問い合わせ
  • 関連製品
Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon manufacture
エキシマレーザーガス KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 混合ガス F2,クリプトン,ヘリウム,ネオン

アルゴンフッ化物(KrF)レーザーはエキシマレーザーの一種です。エキシマレーザー(「励起二量体」の略)は、キセノン、クリプトン、またはアルゴンなどの貴ガスと、塩素やフッ素などのハロゲンガスの混合物で、高圧と電気刺激を受けると248 nmの範囲の紫外線(UV)光を発生します。
カテゴリー
成分(%)
バランスガス
He-Ne レーザー混合ガス
2~8.3 Ne
イー
CO2 レーザー混合ガス
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr
/
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr
Kr-F2 レーザー混合ガス
5 Kr+ 10 F2
/
5 Kr+ 1~0.2 F2
密封ビームレーザーガス
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO
/
エキシマレーザー
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2
AR
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2
イー
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2
イー
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl
A について
一部モデル用のエキシマーガス
ブランド
波長
シリンダ
バルブ
一貫性
248nm
10リットル
DIN 8/JIS
B & L
193nm
20 L/50 L
DIN 8/DIN 14
Zeiss
193nm
10L/20 L
DIN 8
VISX
193nm
16 L
CGA 679
NIDEK
193nm
16 L
CGA 679
LASERSIGHT
193nm
10リットル
CGA 679
Alcon
193nm
16 L
CGA 679
SCHWIND
193nm
20リットル
DIN 8/DIN 14
SUMMIT
193nm
16 L
CGA 679

有機化合物や生物物質は、ArFレーザーによって放出される紫外線を容易に吸収します。このレーザーは組織の分子結合を分解し、その後、制御された方法で空中に飛散します(アブレーション)。燃焼するのではなく、このプロセスが行われます。したがって、ArFレーザーは加熱することなく表面材の微細な層を取り除く可能性を持っています。この特性により、ArFエキシマレーザーは高解像度フォトリソグラフィ装置で一般的に使用され、これはマイクロエレクトロニクスチップ製造における必須技術であり、眼科応用にも関連しています。ArFレーザーの他の応用には、半導体集積回路の製造があり、またアブレーションプロセスに基づいた鉱物サンプルのインシト分析も支援します。

私たちについて
Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon details

ブランド: AGEM

AGEMは、エキシマレーザーガス KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 ミックスガス(F2、クリプトン、ヘリウム、ネオン)を誇りを持って発表します。この混合ガスは、革新的な約束を果たし、レーザー技術を革命化する可能性があります。フッ素(F2)、クリプトン、ヘリウム、ネオンの混合物は、多くの応用において並外れた効果性と正確さを提供します。


エキシマレーザーガス KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 ミックスガス(F2、クリプトン、ヘリウム、ネオン)の中核には、高出力ビームを生成し、材料を極めて精密に蒸発および削除できるKrF 248nmエキシマレーザーがあります。TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0ガスミックスは、このプロセスをより安定した均一な出力で強化し、廃棄物を削減し、生産性を向上させます。


エキシマレーザーガス KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 ミックスガス F2,クリプトン,ヘリウム,ネオンのいくつかの利点のうち、その自由度が重要です。これは、マイクロエレクトロニクスや半導体から医療機器、バイオテクノロジー研究に至るまで、さまざまな商業的および医療用途に適用できます。その精度は非常に高く、熱影響が低いことから、繊細な材料や複雑な形状にも最適で、指定された仕様が毎回確実に達成されます。


もう一つの資産は、AGEMエキシマレーザーガス KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 ミックスガス F2,クリプトン,ヘリウム,ネオンの組成が確実に有益であることです。これは、安定性と反応性をバランスよく設計されており、そのガスが一貫したパフォーマンスを維持し、ダウンタイムを最小限に抑え、生産性を最大限に高めます。さらに、この混合物は副生成物を減らすように最適化されており、他の多くのレーザーガスオプションよりも環境に優しいものです。


エキシマレーザーガス KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 ミックスガス F2,クリプトン,ヘリウム,ネオンをご利用になるお客様には、AGEMの優れたカスタマーサポートが提供されます。専門家のチームが、関連する質問にお答えし、製品がワークフローにスムーズに統合されるよう支援します。また、競争力のある価格と柔軟な配送もご用意しており、個々のお客様のニーズに合わせています。

お問い合わせ