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AGEM の ArF F2 アルゴン混合レーザーガス (Alcon Allegretto Wavelight 400Hz エキシマ レーザー ガス シリンダー用) をご紹介します。この製品は、レーザー システムに優れたパフォーマンスを提供するように設計されています。ArF F2 とアルゴン混合ガスの強力なブレンドにより、このシリンダーは優れた信頼性と安定性を提供します。
AGEM の ArF F2 アルゴン混合レーザーガス (Alcon Allegretto Wavelight 400Hz エキシマレーザー用) ガスシリンダーは、Alcon Allegretto Wavelight 400Hz エキシマレーザーを含む幅広いレーザーシステムと互換性があります。この製品は、長期間にわたって優れたパフォーマンスを発揮するように設計されており、ガスの不安定性によるシステム障害やダウンタイムの可能性を低減します。
シリンダーには、ガスが純粋で不純物がないことを保証するための高品質の材料が使用されています。これらの材料は、レーザー ビームの特性を変える可能性のある汚染物質によってガスが汚染されないことを保証するために慎重に選択されています。
AGEM の ArF F2 アルゴン混合レーザーガス (Alcon Allegretto Wavelight 400Hz エキシマレーザー用) も安全に使用できます。このシリンダーは安全性を考慮して設計されており、ガスの漏れや他の物質との反応を防ぐ機能が組み込まれています。さらに、この製品は必要なすべての安全基準に準拠しているため、システムの安全性が確保され、スタッフに危険を及ぼすことなく稼働します。
この製品も手頃な価格ですぐに入手できます。AGEM の ArF F2 アルゴン混合レーザーガス (Alcon Allegretto Wavelight 400Hz エキシマレーザーガスシリンダー用) は、競争力のある価格の製品で、コストパフォーマンスに優れています。高品質のパフォーマンスと手頃な価格の理想的な組み合わせを提供し、大きなコストをかけずに優れた結果を達成できます。
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エキシマレーザーガス混合物は、希ガス(アルゴン、クリプトン、キセノン、ネオン)とハロゲンガス(フッ素または塩素)の組み合わせです。ガスの混合によって、生成される DUV 光の波長が決まります。アルゴン + フッ素 + ネオン(193nm)とクリプトン + フッ素 + ネオン(248nm)は、最もよく使用される 96 つの混合物です。体積で見ると、ネオンは混合物の約 97.5~XNUMX% を占めます。
カテゴリー | 成分 % | バランスガス | ||
He-Neレーザー混合ガス | 2~8.3Ne | He | ||
CO2レーザー混合ガス | 0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr | / | ||
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO | ||||
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO | ||||
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO | ||||
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO | ||||
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr | ||||
Kr-F2レーザー混合ガス | 5 Kr+ 10 F2 | / | ||
5Kr+1~0.2F2 | ||||
密閉ビームレーザーガス | 18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO | / | ||
エキシマレーザー | 25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2 | Ar | ||
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2 | He | |||
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2 | He | |||
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl | A |
部分モデル用のエキシマガス | ||||||
ブランド | 波長 | シリンダー | Valve | |||
コヒーレント | 193nm | 20 L | DIN 8 | |||
B&L | 193nm | 20L/50L | DIN 8/DIN 14 | |||
ツァイス | 193nm | 10L/20L | DIN 8 | |||
VISX | 193nm | 16 L | CGA 679 | |||
NIDEK | 193nm | 16 L | CGA 679 | |||
レーザー視力 | 193nm | 10 L | CGA 679 | |||
アルコン | 193nm | 16 L | CGA 679 | |||
シュウィンド | 193nm | 20 L | DIN 8/DIN 14 | |||
SUMMIT | 193nm | 16 L | CGA 679 |
ArFレーザーの他の用途としては、半導体集積回路の製造があります。また、アブレーションプロセスに基づく鉱物サンプルの現場分析も容易になります。
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