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SiF4

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半導体産業用の高純度 99.9% 四フッ化ケイ素 SiF4 ガス
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半導体産業用の高純度 99.9% 四フッ化ケイ素 SiF4 ガス 日本

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四フッ化ケイ素は、無色、腐食性、不燃性の有毒ガスです。塩酸に似た非常に刺激的な臭いがあり、吸い込むと致命的です。この化合物はシリコーンベースに 4 つのフッ化物アームを備えています。

自然界では、一部の火山噴煙では SiF4 が主なガスとなっています。四フッ化ケイ素は、ハロゲン化ケイ素の還元、溶融シリカの電気分解、またはヘキサフルオロケイ酸バリウムを 300℃以上に加熱することによっても製造できます。さらに、四フッ化ケイ素は肥料製造の副産物です。

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