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製品情報：
四フッ化炭素は、通常の条件下では比較的不活性である極低温冷媒であり、酸素置換剤であり、さまざまなウェーハエッチングプロセスでも使用されます。
CF4 は現在、マイクロエレクトロニクス産業で最も広く使用されているプラズマ エッチング ガスです。シリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、リンケイ酸ガラス、タングステンなどの薄膜材料のエッチングや、電子機器や太陽電池の表面洗浄に広く使用できます。また、レーザー技術、気相絶縁、低温冷凍、漏れ検出剤、宇宙ロケットの姿勢制御、プリント回路製造における除染剤の製造にも広く使用されています。
四フッ化炭素の化学的安定性により、四フッ化炭素は金属精錬およびプラスチック産業で使用できます。
