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Miscela di gas laser ArF F2 Argon per bombola di gas laser ad eccimeri Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Italia
- Panoramica
- Inchiesta
- Spesso acquistati insieme
ArF F2 Argon Mixture Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz
Le miscele di gas del laser ad eccimeri sono una combinazione di gas rari (argon, kripton, xeno o neon) e gas alogeni (fluoro o cloro). La miscela di gas determina la lunghezza d'onda della luce DUV prodotta. Argon+fluoro+neon (193nm) e Krypton+fluoro+neon (248nm) sono le due miscele più comunemente utilizzate. In termini di volume; il neon costituisce circa il 96–97.5% della miscela.
Le miscele di gas del laser ad eccimeri sono una combinazione di gas rari (argon, kripton, xeno o neon) e gas alogeni (fluoro o cloro). La miscela di gas determina la lunghezza d'onda della luce DUV prodotta. Argon+fluoro+neon (193nm) e Krypton+fluoro+neon (248nm) sono le due miscele più comunemente utilizzate. In termini di volume; il neon costituisce circa il 96–97.5% della miscela.
Categoria |
Componente (%) |
Bilanciamento del gas |
Gas della miscela laser He-Ne |
2~8.3 Ne |
He |
Miscela di gas laser CO2 |
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr |
/ |
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO |
||
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO |
||
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO |
||
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO |
||
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr |
||
Miscela di gas laser Kr-F2 |
5 Kr+ 10 F2 |
/ |
5 Kr+ 1~0.2 F2 |
||
Gas laser a raggio sigillato |
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO |
/ |
Laser ad eccimeri |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2 |
Ar |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2 |
He |
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2 |
He |
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl |
A |
Gas ad eccimeri per modelli parziali |
||||||
Brand |
lunghezza d'onda |
Cilindro |
Valve |
|||
COERENTE |
193nm |
20 L |
DIN 8 |
|||
B&L |
193nm |
20 L / 50 L |
DIN8/DIN14 |
|||
ZEISS |
193nm |
10 l/20 l |
DIN 8 |
|||
VISX |
193nm |
16 L |
GC 679 |
|||
NIDEK |
193nm |
16 L |
GC 679 |
|||
VISTA LASER |
193nm |
10 L |
GC 679 |
|||
Alcon |
193nm |
16 L |
GC 679 |
|||
SCHWIND |
193nm |
20 L |
DIN8/DIN14 |
|||
SUMMIT |
193nm |
16 L |
GC 679 |
|||
Altre applicazioni del laser ArF includono la produzione di circuiti integrati a semiconduttore. Facilita inoltre l'analisi in situ di campioni minerali basata sul processo di ablazione.
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