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Per Processo Semiconduttore Deposizione Plasma Gas e Etchante 99.9% C318 Perfluorociclobutano Gas Refrigerante C4F8
Nella produzione di materiali e dispositivi semiconduttori, l'ottafluorociclobutano viene utilizzato come gas di deposizione ed etchante. È stato anche studiato come refrigerante in applicazioni specializzate, come sostituto dei refrigeranti clorofluorocarburi che danneggiano la calotta polare. Sfruttando la sua volatilità e inerzia chimica, l'ottafluorociclobutano può essere presente in alcuni cibi aerosolizzati. Viene elencato dal Codex Alimentarius con il numero 946 (E946 per l'UE). Viene studiato come possibile sostituto del solfuro esafluorurato come gas dielettrico.
C4F8, HALOCARBON C318 99.8% G 10LBS, C4F8, Gas per Processo Semiconduttore, Applicabile in: Elettronica, Processo Semiconduttore, Dopante, Etchante, Reagente, Fabbricazione, Reattori, Precursore al Silicio, Gas, Pulizia, Puro, Standard, Refrigeranti - HA C3183.
