EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
TIDAK
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
Campuran Gas Laser Argon ArF F2 Untuk Tabung Gas Laser Excimer Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Indonesia
- Ringkasan
- Enquiry
- Program Terkait
ArF F2 Argon Mixture Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz
Campuran gas laser excimer merupakan kombinasi gas mulia (argon, kripton, xenon, atau neon) dan gas halogen (fluor atau klorin). Campuran gas menentukan panjang gelombang cahaya DUV yang dihasilkan. Argon+fluor+neon (193nm) dan Krypton+fluor+neon (248nm) adalah dua campuran yang paling umum digunakan. Dari segi volume; neon membentuk sekitar 96–97.5% campuran.
Campuran gas laser excimer merupakan kombinasi gas mulia (argon, kripton, xenon, atau neon) dan gas halogen (fluor atau klorin). Campuran gas menentukan panjang gelombang cahaya DUV yang dihasilkan. Argon+fluor+neon (193nm) dan Krypton+fluor+neon (248nm) adalah dua campuran yang paling umum digunakan. Dari segi volume; neon membentuk sekitar 96–97.5% campuran.
Kategori |
Komponen (%) |
Keseimbangan Gas |
Gas Campuran Laser He-Ne |
2~8.3 Ne |
He |
Gas Campuran Laser CO2 |
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr |
/ |
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO |
||
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO |
||
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO |
||
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO |
||
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr |
||
Gas Campuran Laser Kr-F2 |
5 Kr+ 10 F2 |
/ |
5 Kr+ 1~0.2 F2 |
||
Gas Laser Sinar Tersegel |
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO |
/ |
Laser Excimer |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2 |
Ar |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2 |
He |
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2 |
He |
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl |
A |
Gas excimer untuk model parsial |
||||||
Merek |
Panjang gelombang |
Silinder |
katup |
|||
KOHEREN |
193nm |
20 L |
DIN 8 |
|||
B&L |
193nm |
20 L / 50 L |
HARI 8/ HARI 14 |
|||
ZEISS |
193nm |
10L/20L |
DIN 8 |
|||
VISX |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
NIDEK |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
sinar laser |
193nm |
10 L |
CGA 679 |
|||
Alcon |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
ANGIN SCH |
193nm |
20 L |
HARI 8/ HARI 14 |
|||
PUNCAK |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
Aplikasi lain dari laser ArF termasuk produksi sirkuit terpadu semikonduktor. Ini juga memfasilitasi analisis sampel mineral secara in situ berdasarkan proses ablasi.
Kelebihan Kami
Deskripsi Produk
Detail Gambar
Profil Perusahaan
Keuntungan
Aplikasi
Packaging& Shopping
FAQ
Logistik
