EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
- Ikhtisar
- Inquiry
- Produk terkait
Informasi produk:
Karbon tetrafluorida adalah pendingin kriogenik yang relatif iners dalam kondisi normal, pengganti oksigen, dan juga digunakan dalam berbagai proses pengikisan wafer.
CF4 saat ini adalah gas etching plasma yang paling banyak digunakan dalam industri mikroelektronik. Gas ini dapat digunakan secara luas untuk etching bahan film tipis seperti silikon, dioksida silikon, nitrida silikon, kaca fosforasilikon, dan wolfram, serta untuk membersihkan permukaan perangkat elektronik dan sel surya. Selain itu, juga digunakan secara luas dalam produksi teknologi laser, isolasi fase gas, pendinginan suhu rendah, agen deteksi kebocoran, pengendalian sikap roket ruang angkasa, dan sebagai agen desinfeksi dalam produksi sirkuit cetak.
Karena stabilitas kimia dari karbon tetrafluorida, karbon tetrafluorida dapat digunakan dalam industri peleburan logam dan plastik
