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Gaz utilisés dans la fabrication des semi-conducteurs

Les semi-conducteurs sont présents dans tout, des smartphones et ordinateurs personnels aux autres types de gadgets électroniques. Ils doivent être fabriqués à travers un processus spécifique et utilisent une multitude de gaz. Ce qui suit met en avant un compte rendu des nombreux types de gaz utilisés par une seule industrie et comment ces substances haute technologie sont destinées à créer les objets sur lesquels nous comptons réellement. Les nombreux types de gaz utilisés dans le monde de la fabrication des semi-conducteurs. Les semi-conducteurs sont formés à l'aide d'une série complexe de processus tels que l'gravure, la déposition et le nettoyage. Les propriétés et applications variées de ces gaz diffèrent selon les usages spécifiques ou les conditions atmosphériques, qu'il s'agisse autour des fournisseurs industriels de gaz, des fournisseurs spécialisés en gaz semi-conducteurs célèbres, ou dans le laboratoire, offrant un large spectre adapté à tous avec les caractéristiques critiques nécessaires pour accomplir la tâche de manière satisfaisante. Aujourd'hui, dans ce contexte, nous présentons quelques-uns des principaux gaz utilisés dans les processus de fabrication de matériaux. Silane SiH4 : Ce gaz est incolore et est également représenté comme un matériau électronique à base de silicium important. Il est connu pour être très dynamique et réagir rapidement avec l'oxygène et l'eau pour former de l'oxyde de silicium SiO et du gaz hydrogène. Le silane peut être utilisé pour déposer le matériau à base de silicium, comme le SiNx, soit rapidement, soit à relativement basse température. Élément Azote N2 : Ce gaz est inerte et empêche l'oxydation. Il est continuellement produit et nécessaire pour purger l'appareil lors du processus d'entretien afin d'éliminer l'afflux d'O2 et d'humidité. Un tel gaz sera également utilisé pour faciliter et transporter les activités d'autres gaz, fonctionner comme gaz transporteur dans la déposition de vapeur de nichrome et la déposition de vapeur de nichrome améliorée par plasma.

Hydrogène (H2) - L'hydrogène est utilisé comme gaz réducteur en éliminant les impuretés des matériaux. Dans la fabrication de semi-conducteurs, il s'agit d'une étape importante dans plusieurs processus tels que l'annealing et le nettoyage. De plus, l'hydrogène crée des portes métalliques utilisées dans la production de dispositifs CMOS avancés.

Oxygène stable (O2/O) - insérer les délais de livraison des feuilles et spécifications, etc. Gaz O. Bien que l'oxygène soit utilisé dans de nombreux processus à plasma tels que l'etching et le stripping/ashing, il sert également de réactif pour oxyder les matériaux à base de silicium en SiOx ou pour passiver les surfaces métalliques par oxydation.

Chlorine (Cl2) : Le chlore est un non-métal jaune ou rouge fumant avec une odeur âcre sous forme liquide. Ce gaz, qui est très réactif avec les matériaux à base de silicium, le dioxyde de silicium et de nombreux métaux tels que l'aluminium, a été utilisé dans diverses applications d'etching de structures semi-conductrices.

Découverte des principales applications des gaz semi-conducteurs et de leurs avantages

Le fait que des gaz soient utilisés dans la production de semi-conducteurs a conduit à la création d'électronique haute fidélité, comme produit par une augmentation des capacités de fabrication de semi-conducteurs. Les gaz ont également plusieurs utilisations et avantages significatifs dans l'industrie des semi-conducteurs.

Des gaz comme le silane, l'ammoniac et l'azote sont utilisés pour déposer de l'oxyde ou du nitride de silicium, qui seront les couches minces des semi-conducteurs. Dépôt.

Étchage : Il est utilisé pour enlever sélectivement des matériaux ou des motifs indésirables des semi-conducteurs à l'aide de gaz comme le chlore, le fluor et l'oxygène.

Gaz de procédé : L'hydrogène et l'azote sont nécessaires au fonctionnement des équipements de nettoyage des semi-conducteurs (purification) afin de réduire les impuretés pouvant affecter les performances des dispositifs.

Purge : L'une de ses principales utilisations est lorsqu'il agit comme un gaz de purge pendant les travaux d'entretien des équipements, cela retire l'oxygène et l'humidité du système, maintenant ainsi les matériaux dans la ligne libres.

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