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Cilindro de gas láser de mezcla de argón ArF F2 para láser excimer Alcon Allegretto Wavelight de 400 Hz

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Presentamos el cilindro de gas láser de mezcla de argón ArF F2 de AGEM para láser excímero Alcon Allegretto Wavelight de 400 Hz. Este producto ha sido diseñado para proporcionar un rendimiento excelente para su sistema láser. Con su potente mezcla de ArF F2 y argón, este cilindro ofrece una fiabilidad y estabilidad notables.

 

El cilindro de gas láser de mezcla de argón ArF F2 de AGEM para láser excímero Wavelight de 400 Hz de Alcon Allegretto es compatible con una amplia gama de sistemas láser, incluido el láser excímero Wavelight de 400 Hz de Alcon Allegretto. Este producto ha sido diseñado para ofrecer un rendimiento superior durante un período prolongado, lo que reduce la probabilidad de fallas del sistema o tiempo de inactividad debido a la inestabilidad del gas.

 

El cilindro utiliza materiales de alta calidad que garantizan que el gas sea puro y libre de impurezas. Estos materiales han sido cuidadosamente seleccionados para garantizar que el gas no esté contaminado por ningún contaminante que pueda alterar las características del haz láser.

 

El cilindro de gas láser de mezcla de argón ArF F2 de AGEM para láser excímero Alcon Allegretto Wavelight de 400 Hz también es seguro de usar. El cilindro ha sido diseñado teniendo en cuenta la seguridad, incorporando características que evitan que el gas se escape o reaccione con otras sustancias. Además, el producto cumple con todos los estándares de seguridad necesarios, lo que garantiza que su sistema sea seguro y funcione sin riesgos para el personal.

 

Este producto también está disponible a un precio asequible. El cilindro de gas láser de mezcla de argón ArF F2 de AGEM para láser excímero Alcon Allegretto Wavelight de 400 Hz es un producto de precio competitivo que ofrece una excelente relación calidad-precio. Ofrece una combinación ideal de rendimiento de calidad y asequibilidad, lo que le permite lograr resultados superiores sin incurrir en costos significativos.


Mezcla de gas argón ArF F2 para láser Alcon Allegretto Wavelight 400 Hz

Las mezclas de gases para láseres excimer son una combinación de gases raros (argón, criptón, xenón o neón) y gases halógenos (flúor o cloro). La mezcla de gases determina la longitud de onda de la luz DUV producida. Argón+flúor+neón (193 nm) y criptón+flúor+neón (248 nm) son las dos mezclas más comunes que se utilizan. En términos de volumen, el neón constituye aproximadamente el 96-97.5 % de la mezcla.
Categoría
Componente %
Gas de equilibrio


Gas de mezcla láser He-Ne
2~8.3 Ne
He


Gas de mezcla láser de CO2
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr
/


0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr
Gas de mezcla láser Kr-F2
5 coronas+ 10 F2
/


5 Kr+ 1~0.2 F2
Gas láser de haz sellado
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO
/


Láser excimer
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2
Ar


25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2
He

25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2
He

25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl
A

   Gases excímeros para modelos parciales.
Marca
Longitud de onda
Cilindro
Valve



COHERENTE
193nm
20 L
DIN 8



B y L
193nm
20 litros / 50 litros
DIN 8/DIN 14



ZEISS
193nm
10L/20L
DIN 8



visx
193nm
16 L
CGA 679



NIDEK
193nm
16 L
CGA 679



VISIÓN LASER
193nm
10 L
CGA 679



Alcon
193nm
16 L
CGA 679



SCHWIND
193nm
20 L
DIN 8/DIN 14



SUMMIT
193nm
16 L
CGA 679



Otras aplicaciones del láser ArF incluyen la producción de circuitos integrados de semiconductores. También facilita el análisis in situ de muestras minerales mediante el proceso de ablación.

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