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Cilindro de gas láser de mezcla de argón ArF F2 para láser excimer Alcon Allegretto Wavelight de 400 Hz
- Resumen
- Consulta
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ArF F2 Argon Mixture Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz
Las mezclas de gases del láser excimer son una combinación de gases raros (argón, criptón, xenón o neón) y gases halógenos (flúor o cloro). La mezcla de gases determina la longitud de onda de la luz DUV producida. Argón+flúor+neón (193 nm) y criptón+flúor+neón (248 nm) son las dos mezclas más utilizadas. En términos de volumen; el neón constituye aproximadamente entre el 96% y el 97.5% de la mezcla.
Las mezclas de gases del láser excimer son una combinación de gases raros (argón, criptón, xenón o neón) y gases halógenos (flúor o cloro). La mezcla de gases determina la longitud de onda de la luz DUV producida. Argón+flúor+neón (193 nm) y criptón+flúor+neón (248 nm) son las dos mezclas más utilizadas. En términos de volumen; el neón constituye aproximadamente entre el 96% y el 97.5% de la mezcla.
Categoría |
Componente (%) |
Gas de equilibrio |
Gas de mezcla láser He-Ne |
2~8.3 Ne |
He |
Gas de mezcla láser de CO2 |
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr |
/ |
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO |
||
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO |
||
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO |
||
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO |
||
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr |
||
Gas de mezcla láser Kr-F2 |
5 coronas+ 10 F2 |
/ |
5 Kr+ 1~0.2 F2 |
||
Gas láser de haz sellado |
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO |
/ |
Láser excimer |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2 |
Ar |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2 |
He |
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2 |
He |
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl |
A |
Gases excímeros para modelos parciales. |
||||||
Marca |
Longitud de onda |
Cilindro |
Valve |
|||
COHERENTE |
193nm |
20 L |
DIN 8 |
|||
B y L |
193nm |
20 litros / 50 litros |
DIN 8/DIN 14 |
|||
ZEISS |
193nm |
10L/20L |
DIN 8 |
|||
visx |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
NIDEK |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
VISIÓN LASER |
193nm |
10 L |
CGA 679 |
|||
Alcon |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
SCHWIND |
193nm |
20 L |
DIN 8/DIN 14 |
|||
SUMMIT |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
Otras aplicaciones del láser ArF incluyen la producción de circuitos integrados semiconductores. También facilita el análisis in situ de muestras minerales basado en el proceso de ablación.
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