Corrección de la visión láser VISX Alcon Zeiss Nidex Gas ArF Argón F2 Helio Neón Gas de Láser Excimer
Gases excímer para modelos parciales | |||
Marca | Duración de onda | Cilindro | Válvula |
coherente | 193nm | 20 L | DIN 8 |
B & L | 193nm | 20 L/50 L | DIN 8/ DIN 14 |
Zeiss | 193nm | 10L/20 L | DIN 8 |
VISX | 193nm | 16 L | CGA 679 |
NIDEK | 193nm | 16 L | CGA 679 |
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- Consulta
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Las mezclas de gas láser excimer son una combinación de gases raros (argón, criptón, xenón o neón) y gases halógenos (flúor o cloro). La mezcla de gases determina la longitud de onda de la luz DUV producida. Argón+flúor+neón (193nm) y Criptón+flúor+neón (248nm) son las dos mezclas más comunes utilizadas. En términos de volumen; el neón constituye aproximadamente el 96-97.5% de la mezcla.
Categoría
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Componente (%)
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Gas de Equilibrio
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Mezcla de Gas para Láser He-Ne
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2~8.3 Ne
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él
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Mezcla de Gas para Láser CO2
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0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr
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/
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0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO
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0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO
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0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO
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0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO
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||||
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr
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Gas de Mezcla de Láser Kr-F2
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5 Kr+ 10 F2
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/
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5 Kr+ 1~0.2 F2
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Gas de Láser de Haz Sellado
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18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO
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/
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||
láser excimer
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25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2
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AR
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25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2
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él
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25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2
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él
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25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl
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A. El
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Gases excímer para modelos parciales
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Marca
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Duración de onda
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Cilindro
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Válvula
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coherente
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193nm
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20 L
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DIN 8
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B & L
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193nm
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20 L/50 L
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DIN 8/ DIN 14
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Zeiss
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193nm
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10L/20 L
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DIN 8
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VISX
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193nm
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16 L
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CGA 679
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NIDEK
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193nm
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16 L
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CGA 679
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LASERSIGHT
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193nm
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10 litros
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CGA 679
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Alcon
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193nm
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16 L
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CGA 679
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SCHWIND
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193nm
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20 L
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DIN 8/ DIN 14
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SUMMIT
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193nm
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16 L
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CGA 679
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Otras aplicaciones del láser ArF incluyen la producción de circuitos integrados semiconductores. También facilita el análisis in situ de muestras minerales basado en el proceso de ablación.

AGEM
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