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Gases de Alta Pureza para Electrónica Monofluorometano 99.999% FC41 UN 2454 Halocarbono 41 Fluoruro de Metilo CH3F
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Gases de Alta Pureza para Electrónica Monofluorometano 99.999% FC41 UN 2454 Halocarbono 41 Fluoruro de Metilo CH3F
AGEM produce y vende gas de monofluorometano de alta pureza (CH3F) para ser utilizado en el proceso de fabricación de chips de semiconductores.
Fluorometano, también conocido como fluoruro de metilo, Freon 41, Halocarbono-41 y HFC-41, es un gas licuable e intóxico a temperatura y presión estándar. Está compuesto de carbono, hidrógeno y flúor. El nombre proviene del hecho de que es metano (CH4) con un átomo de flúor sustituido por uno de los átomos de hidrógeno. Se utiliza en procesos de fabricación de semiconductores como gas de etching en reactores de etching por plasma.
Fluorometano, más comúnmente llamado fluoruro de metilo (MeF) o Halocarbono 41, es un gas licuable e intóxico utilizado en la fabricación de productos semiconductores y electrónicos. En presencia de un campo RF, se disocia en iones de flúor para el etching selectivo de películas de compuestos de silicio.
Aplicación :CH3F es un gas especializado utilizado en el proceso de fabricación de chips de semiconductores para la micromachinado del filme de nitruro mediante etching. CH3F se utiliza principalmente en la fabricación de chips de memoria de semiconductor, incluidos NAND flash y DRAM, que requieren tecnología de micromachinado. Dado que su selectividad de etching es mayor que la de otros gases, CH3F es adecuado para el micromachinado de la estructura de múltiples capas del 3D NAND flash. La demanda de CH3F ha estado aumentando últimamente debido al inicio de muchas líneas para fabricar 3D NAND flash.
