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Gases de alta pureza para electrónica monofluorometano 99.999% FC41 ONU 2454 halocarbono 41 fluoruro de metilo CH3F
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Gases de alta pureza para electrónica monofluorometano 99.999% FC41 ONU 2454 halocarbono 41 fluoruro de metilo CH3F
UNA GEMA produce y vende gas monofluorometano (CH3F) de alta pureza para ser utilizado en el proceso de fabricación de chips semiconductores.
fluorometano, También conocido como fluoruro de metilo, freón 41, halocarbono-41 y HFC-41, es un gas licuable y no tóxico a temperatura y presión estándar. Está hecho de carbono, hidrógeno y flúor. El nombre proviene del hecho de que es metano (CH4) con un átomo de flúor sustituido por uno de los átomos de hidrógeno. Se utiliza en procesos de fabricación de semiconductores como gas de grabado en reactores de grabado por plasma.
fluorometano, Más comúnmente llamado fluoruro de metilo (MeF) o halocarbono 41, es un gas licuable no tóxico que se utiliza en la fabricación de semiconductores y productos electrónicos. En presencia de un campo de RF, se disocia en iones de flúor para el grabado selectivo de películas de compuestos de silicio.
Applicación:CH3F es un gas especial utilizado en el proceso de fabricación de chips semiconductores para micromecanizado de películas de nitruro mediante grabado. CH3F se utiliza principalmente en la fabricación de chips de memoria semiconductores, incluidas memorias flash NAND y DRAM, que requieren tecnología de micromecanizado. Dado que su selectividad de grabado es mayor que la de otros gases, el CH3F es adecuado para el micromecanizado de estructuras multicapa de flash 3D NAND. La demanda de CH3F ha ido aumentando estos días debido a la puesta en marcha de muchas líneas para fabricar flash 3D NAND.
