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Información sobre el producto:
El tetrafluoruro de carbono es un refrigerante criogénico que es relativamente inerte bajo condiciones normales, desplazador de oxígeno, y también se utiliza en diversos procesos de etching de wafer.
El CF4 es actualmente el gas de etching por plasma más utilizado en la industria de microelectrónica. Se puede utilizar ampliamente en el etching de materiales de película delgada como silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio, vidrio fosfosilicato y tungsteno, y en la limpieza superficial de dispositivos electrónicos y celdas solares. También se utiliza ampliamente en la producción de tecnología láser, aislamiento en fase gaseosa, refrigeración a baja temperatura, agentes de detección de fugas, control de la actitud de cohetes espaciales y agentes de descontaminación en la producción de circuitos impresos.
Debido a la estabilidad química del tetrafluoruro de carbono, este puede utilizarse en la fundición de metales y en la industria plástica
