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C5F8 Octafluorcyclopenten-Gas
Wird häufig im Ätzprozess bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet, insbesondere für die Größe und das selektive Ätzen kleinster geometrischer Merkmale (z. B. der Breite von Verbindungsleitungen, Kontakten, Gräben usw.).
