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Produktinformationen:
Carbon tetrafluorid ist ein kryogener Kältemittel, das unter normalen Bedingungen relativ inert ist, ein Sauerstoffverdränger und wird auch in verschiedenen Schleifprozessen für Wafer verwendet.
CF4 ist derzeit das am weitesten verbreitete Plasma-Ätzgas in der Mikroelektronikindustrie. Es kann bei der Ätzung von dünnen Filmmaterialien wie Silizium, Siliciumdioxid, Siliciumnitrid, Phosphorsilikatglas und Wolfram eingesetzt werden sowie bei der Oberflächenreinigung von elektronischen Geräten und Solarzellen. Es wird außerdem bei der Herstellung von Lasertechnologie, Gasphasen-Isolation, Tiefkühlanlagen, Lecksuchmitteln, zur Steuerung der Lage von Raumraketen und als Desinfektionsmittel in der Leiterplattenherstellung eingesetzt.
Aufgrund der chemischen Stabilität von Tetrafluormethan kann Tetrafluormethan in der Metallverhüttung und in der Kunststoffindustrie verwendet werden.
