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Für Halbleiterprozess Plasmaablagerungsgas und -ätchant 99,9% C318 Perfluorocyclobutan Kältemittelgas C4F8
Bei der Herstellung von Halbleitermaterialien und -bauelementen dient Octafluorocyclobutan als Ablagerungsgas und -ätchant. Es wurde auch in speziellen Anwendungen als Kältemittel untersucht, um ozonzerstörende Chlorfluorkohlenwasserstoff-Kältemittel zu ersetzen. Durch die Nutzung seiner Volatilität und chemischen Trägheit kann Octafluorocyclobutan in einigen aerosolisierten Lebensmitteln vorkommen. Es ist im Codex Alimentarius unter der Nummer 946 (E946 für die EU) aufgeführt. Es wird als möglicher Ersatz für Schwefelhexafluorid als Dielektrikum-Gas untersucht.
C4F8, HALOCARBON C318 99,8% G 10LBS, C4F8, Halbleiterprozessgas, Anwendbar in: Elektronik, Halbleiterprozess, Dotiermittel, Ätchant, Reaktant, Fertigung, Reaktoren, Silic-Vorgänger, Gase, Spülung, Rein, Standards, Kältemittel - HA C3183.
