EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
INGEN
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
ArF F2 Argon Blanding Laser Gas Til Alcon Allegretto Wavelight 400 Hz Excimer Laser Gas cylinder Danmark
- Oversigt
- Forespørgsel
- Relaterede Produkter
ArF F2 Argon Mixture Laser Gas For Alcon Allegretto Wavelight 400Hz
Excimer-lasergasblandinger er en kombination af sjældne gasser (argon, krypton, xenon eller neon) og halogengasser (fluor eller klor). Blandingen af gasser bestemmer bølgelængden af produceret DUV-lys. Argon+fluor+neon (193nm) og Krypton+fluor+neon (248nm) er de to mest almindelige anvendte blandinger. Med hensyn til volumen; neon udgør cirka 96-97.5 % af blandingen.
Excimer-lasergasblandinger er en kombination af sjældne gasser (argon, krypton, xenon eller neon) og halogengasser (fluor eller klor). Blandingen af gasser bestemmer bølgelængden af produceret DUV-lys. Argon+fluor+neon (193nm) og Krypton+fluor+neon (248nm) er de to mest almindelige anvendte blandinger. Med hensyn til volumen; neon udgør cirka 96-97.5 % af blandingen.
Boligtype |
Komponent (%) |
Balance Gas |
He-Ne Laserblandingsgas |
2~8.3 Ne |
He |
CO2-laserblandingsgas |
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr |
/ |
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO |
||
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO |
||
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO |
||
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO |
||
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr |
||
Kr-F2 Laserblanding Gas |
5 Kr+ 10 F2 |
/ |
5 Kr+ 1~0.2 F2 |
||
Forseglet strålelasergas |
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO |
/ |
Excimer laser |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2 |
Ar |
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2 |
He |
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2 |
He |
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl |
A |
Excimer gasser til delmodeller |
||||||
Mærke |
Bølgelængde |
Cylinder |
Valve |
|||
SAMMENHÆNGENDE |
193nm |
20 L |
DIN 8 |
|||
B & L |
193nm |
20 L/50 L |
DIN 8/ DIN 14 |
|||
ZEISS |
193nm |
10L/20L |
DIN 8 |
|||
VISX |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
Nidek |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
LASERSYN |
193nm |
10 L |
CGA 679 |
|||
Alcon |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
SCHWIND |
193nm |
20 L |
DIN 8/ DIN 14 |
|||
TOPMØDE |
193nm |
16 L |
CGA 679 |
|||
Andre anvendelser af ArF laser omfatter produktion af halvleder integrerede kredsløb. Det letter også in situ analyse af mineralprøver baseret på ablationsprocessen.
Hvorfor vælge os
Produktbeskrivelse
Detaljer Billeder
Firma profil
Advantage
Anvendelse
Packaging& Shopping
FAQ
Logistik
