- Oversigt
- Anmodning
- Relaterede produkter
C5F8 Octafluorocyclopenten Gas
Bruges vidt om i den etchingsproces, der anvendes ved fremstilling af halvledere, især til størrelse og selektiv etching af de mindste geometriske funktioner (som f.eks. bredden af forbindelseskredslinjer, kontakter, grene mv.)