EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
- Oversigt
- Anmodning
- Relaterede produkter
Til Semiconductor Process Plasma Deposition Gas Og Etchant 99.9% C318 Perfluorocyclobutane Kølemedie Gas C4F8
I produktionen af halvledermaterialer og -enheder fungerer oktafluorocyclobutan som et depositionsgas og etchant. Det er også blevet undersøgt som kølemedie i specialiserede anvendelser, som en ersatz for ozonforurende chlorofluorcarbon-kølemidler. Ved at udnytte dets volatilitet og kemiske inerthed kan oktafluorocyclobutan findes i nogle aerosoliserede fødevarer. Det er opført af Codex Alimentarius under nummer 946 (E946 for EU). Det undersøges som en mulig ersatz for sulfurhexafluorid som et dielektrisk gas.
C4F8, HALOCARBON C318 99.8% G 10LBS, C4F8, Semiconductor Process Gas, Anvendeligt i: Elektronik, Semiconductor Process, Dopant, Etchant, Reagent, Fremstilling, Reaktorer, Silicium-Præcursør, Gasser, Rengøring, Rent, Standarder, Kølemidler - HA C3183.
