Gas Ioddefnyddol Uchelgynnull 999% Octafluorocyclobutane Halocaron C318 C4f8 Gas

Eitem asesu	uned	Gofyniad	Canlyniad asesiad
C4F8	%	≤80	≤1.0
O2	ppmv	≤300	≤3.0
N2	ppmv	≤50	≤0.5
Cwmni	ppmv	≤30	≤0.5
CH4	ppmv	≤30	≤0.5
Dŵr	ppmv	≤10	≤3.0
THC	ppmv	≤600	≤5.0

Ymholiadau

trosolwg
Ymholiadau
Cynnyrchau Cysylltiedig

Yn cyflwyno Gas Iwfredyn Uchel Gywir 99.9% Octafluorocyclobutane Halocaron C318 C4f8 Gas, yr ateb ideal ar gyfer ymddygiad busnesol. Mae'r ffrâm hwn yn ddefnyddiol iawn a gwrdd cynnig perfformiad uwch a chysondeb, gan ei wneud yn angenrheidiol i unrhyw busnes sydd am optimo'i system iwfredyn.

Drwy gymryd lefel gwyrdd o 99.9%, mae Gas Iwfredyn Uchel Gywir 99.9% Octafluorocyclobutane Halocaron C318 C4f8 Gas yn llwythwyr diwydiannol ynghylch cysondeb a pherfformiad. Mae'n cael ei greu'n benodol ar gyfer systemau iwfredyn sy'n edrych ar lefelau uchel o gywir ac achos. Mae'r gas yn sefydlog cemegol, heb ungl, a ganddo potensial sero i ddiflannu'r ôlwyn. Yn eithr, nid yn unig mai'n ffrind i'r amgylchedd, ond hefyd effeithlon a ddiogel i'w defnyddio.

Gas cryfr High Purity 99.9% Octafluorocyclobutane Halocaron C318 C4f8 Mae'n amlwg yn systemau cryfr diwydiannol pan mae'n dod i faint o ddefnydd fel crynu, cael, a chynorthwyo ar gyfer storio. Mae'r derfyn yn cynnwys pwrpas gamwyr isel, sy'n ei wneud addas i'w defnyddio mewn ymddygiadau o wythrych gofal. Heblaw hynny, nid yw'n adnewyddu, sy'n helpu i sicrhau nad yw'n gorfodoli peiriannau cryfr, ac mae gan hynny'r potensial gorwedd lleiaf yn y byd. Mae hyn yn caniatáu i sefydluon gyfarfod â rheoliadau amgylcheddol tra bod yn parhau i gynrychioli'r cyfle gorau.

Mae Gas cryfr High Purity 99.9% Octafluorocyclobutane Halocaron C318 C4f8 yn hawdd ei ddefnyddio a'i pharatoi oherwydd ei ffurf grwmigedig. Mae hyn yn gwneud modd ei dreisio a'i gadw yn hawdd, ac yn gwneud yn siŵr bod sefydluon yn gallu eu defnyddio heb unrhyw anodd. Yn ogystal, mae'n addas ar gyfer fathau llawer o systemau cryfr, sy'n ei wneud yn fardd lefelu.

Disgrifiad Cynnyrchiadau

Refrigerant gas High Purity 999% Octafluorocyclobutane Halocaron C318 C4f8 Gas details

Ar gyfer Proses Semicondector Plasmat Deposiadu Gwres A Thant 99.9% C318 Perfluorocyclobutane Ialwraig Gas C4F8

Yn y cynhyrchu o deuluoedd a materion semicondector, mae octafluorocyclobutane yn gwasanaethu fel gwres depesiadu a thant. Mae hefyd wedi'i archwilio fel ialwraig mewn cyfeiriadau arbennig, fel amnewid i'r ialwraig chlorofluorocarbon sy'n anelu ar ofyn lestri ozone. Drwy ddefnyddio ei wahaniaetholdeb a'i drwmiant gofal, gall fod octafluorocyclobutane yn rhai bwydau aerosoledig. Mae'n cael ei rhestru gan y Codex Alimentarius dan rif 946 (E946 ar gyfer yr UE). Mae'n cael ei archwilio fel amheus posib i'w defnyddio yn lle sulfurhexafluoride fel gwres dieletryc.

C4F8, HALOCARBON C318 99.8% G 10LBS, C4F8, Gas Proses Semicondector, Yn berthnasol i: Electronig, Proses Semicondector, Dopant, Etchant, Reactant, Fabrygeiddio, Reactors, Siapan-Silicon, Gases, Purge, Pure, Safonau, Ialwraig - HA C3183.

Enw Product :	Gwres Ialwraig Uchelfodd 99.9% Octafluorocyclobutane Halocaron C318 C4f8 Gas	Gweddill:	99.9~99.999%
Rhif CAS:	115-25-3	Rhif EINECS:	206-640-9
MF:	C4F8	Mass molynol:	115-25-3.mol
Rhif UN:	1976	Dosbarth Camdriniaeth:	2.2 (Gas Diflamedig)
Aderian:	Gwyn, heb diflannu	Amlliw:	Heb amlygad
Fabrydd	AGEM	CGA DISS	660
Rhif CAS	115-25-3	Gradd	Semiconductor

Eitem asesu	uned	Gofyniad	Canlyniad asesiad
C4F8	%	≤80	≤1.0
O2	ppmv	≤300	≤3.0
N2	ppmv	≤50	≤0.5
Cwmni	ppmv	≤30	≤0.5
CH4	ppmv	≤30	≤0.5
Dŵr	ppmv	≤10	≤3.0
THC	ppmv	≤600	≤5.0

Ymgeisio

Refrigerant gas High Purity 999% Octafluorocyclobutane Halocaron C318 C4f8 Gas factory

Defnydd	Ymateb Tipig
Yn y broses semiconductor	Yn y cynhyrchu o deunyddion a ddisgyblion semiconductor, gwasanaethir octafluorocyclobutane fel gas depoziti a chynnyrch. Mae hefyd wedi'i archwilio fel cryfiant mewn cyfeiriadau arbennig, fel amnewidyn ar gyfer cryfiant chlorofluorocarbon sy'n gwneud ôl i'r ozon.